[發(fā)明專利]底模提升阻尼

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110369498.5
• 申請日: 2011-11-18
• 公開（公告）號: CN102700113A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設計）人: 托馬斯·斯皮策
• 申請（專利權(quán)）人: 克朗斯股份有限公司
• 主分類號: B29C49/48
• 分類號: B29C49/48
• 代理公司: 上海東信專利商標事務所 31228
• 代理人: 楊丹莉

背景技術(shù)

根據(jù)權(quán)利要求1和11的前序部分，本發(fā)明涉及一種容器成型裝置以及一吹塑模具的一模架單元和一底模架(base?mould?carrier)的一種阻尼關(guān)閉方法，該吹塑模具用于容器成型。

用于塑料容器成型的吹塑/拉伸成型機器和裝置是公知的，該塑料容器由例如一型坯制成。這些裝置具有大量用于吹制和拉伸容器的設備(也稱為吹塑站)，該設備包括至少一模架單元，該模架單元由兩個模架和一個底模(base?mould)組成。

例如專利文獻US?2008/0063742A1就描述了這樣一種用于生產(chǎn)容器的吹塑機。

傳統(tǒng)拉伸吹塑機內(nèi)的底模設于一底模架上，其在模架單元關(guān)閉的過程中通過一對應的提升裝置在模架單元的方向上移動，以使模架單元和底模最終彼此相向運動或反向運動，從而形成一墻體，圍繞著要被吹制的容器。那么模架單元圍繞著要被成型的容器的側(cè)壁，同時底模覆蓋著容器的底部區(qū)域。

在該底模在模架單元方向上的定向的、通常無制動的以及非?？焖俚囊苿舆^程中，經(jīng)常會在底模和各模架之間發(fā)生一碰撞，由此各組件可能會損壞。因此就不會存在內(nèi)部區(qū)域(容器在該內(nèi)部區(qū)域內(nèi)成型，其與包括底模和模架單元的墻體形成的外部區(qū)域相對)的完美封閉。

因此，有必要以一種可控的方式對底模相對于模架單元的移動進行制動，例如采用一沖擊阻尼裝置。例如專利文獻WO?2006/032503A2就描述了這樣的沖擊阻尼裝置，其中公開的用于模塑塑料的機器包括一沖擊阻尼裝置以及一模塑裝置和一驅(qū)動裝置。該沖擊阻尼裝置包括一設于沖模(swage)和/或凹模之間的氣缸，和對應的驅(qū)動裝置，用以將沖模和凹模移動到位。這些沖擊阻尼裝置能夠保持一恒定的壓力施加于沖模和凹模上，并防止例如模塑裝置損壞而可能產(chǎn)生的超壓。因此這些沖擊阻尼裝置僅僅是壓力調(diào)節(jié)元件，其并不控制元件(此處為沖模和凹模)移動到一起的動作。

僅僅為了減小關(guān)閉速度，例如專利文獻EP?0425388B1描述了一緩沖器，該緩沖器適于容置減速軸，該減速軸靠近一下降桿(lewering?rod)設置，該下降桿設于一旋轉(zhuǎn)注塑成型機內(nèi)的一封閉板上，該旋轉(zhuǎn)注塑成型機具有一對應的封閉裝置以減小封閉板的移動。但是，此處封閉元件之間的接觸是沒有限位的。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于避免底?；虻啄Ｉ线吘壟c模架單元或模架下邊緣之間的碰撞，以延長底模和模架的使用壽命，并且因而能夠使容器成型更加經(jīng)濟和高效。

上述目的通過本發(fā)明權(quán)利要求1和11所述的一用于容器成型的裝置和一吹塑模具的一模架單元和一底模架(base?mould?carrier)的一種阻尼關(guān)閉方法而實現(xiàn)，該吹塑模具用于容器成型。

本發(fā)明所述的用于容器成型的裝置具有至少一支撐吹模部件的模架單元，一支撐一底模(base?mould)的底模架，以及一底模架提升裝置，用于移動底模架，該底模架的移動與模架單元的移動是相關(guān)聯(lián)的，其中模架單元包括至少兩個圍繞著容器的模架，該容器將至少在一模塑工藝中進行處理，其中底模架通過底模覆蓋待處理容器的一底部區(qū)域。

進一步地，本發(fā)明所述裝置的特征在于底模架提升裝置包括至少一個第一阻尼元件，用于對底模架相對于模架單元的基本垂直的移動進行阻尼和限位。該阻尼元件可由若干零件構(gòu)成，其首先用于對底模架相對于模架單元的移動進行阻尼，其次優(yōu)選地也用于為該移動形成一端部限位。

因此，本發(fā)明所述的裝置包括一模架支架(mould?carrier?holder)，一模架單元可轉(zhuǎn)動地或可回轉(zhuǎn)地設于其上，模架單元具有至少兩個模架和一底模架提升裝置，底模架設于底模架提升裝置上，用于承載或移動底模。

有利地，在吹塑模具或模架單元打開和/或關(guān)閉過程中的至少一部分時間內(nèi)，至少一個模架和底模架的移動是關(guān)聯(lián)在一起的。

在一種優(yōu)選的實施方式中，底模架提升裝置具有一基底元件(base?unit)和一基架(base?carrier)，基底元件相對于一主保持元件(main?retaining?element)是可移動的，基架相對于主保持元件是不動的，其中底模架本身相對于基架可移動地設置。