[發明專利]一種TFT-LED彩色陣列顯示基板及其制造方法有效
| 申請號: | 201110367855.4 | 申請日: | 2011-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN102394240A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發明(設計)人: | 鄧朝勇;楊利忠;楊小平;胡紹璐;雷遠清 | 申請(專利權)人: | 貴州大學 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L21/77 |
| 代理公司: | 貴陽中新專利商標事務所 52100 | 代理人: | 李亮;程新敏 |
| 地址: | 550003 貴*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 tft led 彩色 陣列 顯示 及其 制造 方法 | ||
1.一種TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:在襯底(1)上方依次為緩沖層(2),n型GaN層(3),三基色發光層(4),p型GaN層(5)和透明電極層(6);n型GaN層(3)、三基色發光層(4)、p型GaN層(5)和透明電極層(6)共同組成顯示單元,在顯示單元上設有控制區(7),在顯示單元之間設有引線區(8);在控制區(7)內設有由電容器下極板(10),電容器上極板(12)及同處于它們之間的絕緣層(25)所構成的電容器;由工作TFT柵極(13)、工作TFT的溝道(17)、工作TFT源極(22)、工作TFT漏極(23)及絕緣層(25)組成的工作TFT;以及由控制TFT柵極(15)、控制TFT溝道(18)、控制TFT源極(19)和控制TFT漏極(21)及絕緣層(25)組成的控制TFT;在引線區(8)內設有n型GaN層接地引線(11),工作TFT源極引線(24),控制TFT源極引線(20)及控制TFT柵極引線(16);電容器下極板(10)與n型GaN層(3)接觸,n型GaN層接地引線(11)與電容器下極板(10)連接;電容器上極板(12)分別與工作TFT柵極(13)及控制TFT漏極(21)連接,工作TFT漏極(23)與透明電極層(6)連接,工作TFT的源極(22)與工作TFT源極引線(24)連接,控制TFT源極(19)與控制TFT源極引線(20)連接,控制TFT柵極(15)與控制TFT柵極引線(16)連接;絕緣層(25)處于各層金屬電極和不同層引線之間,在控制區(7)及引線區(8)的頂部設有鈍化保護層(26)。
2.根據權利要求1所述的TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:襯底(1)的材料為藍寶石單晶襯底或SiC單晶襯底;n型半導體層(3)和p型半導體層(5)是由不同摻雜濃度的p型或n型GaN外延薄膜組成,其中n型半導體層摻入Si,p型半導體層摻入Mg或Zn;透明電極層(6)為原位生長的ITO或IZO。
3.根據權利要求1所述的TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:三基色發光層(4)是由紅、綠、藍三種厚度相同的發光層組成發光陣列,發光陣列的每個單元獨立發光。
4.根據權利要求1所述的TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:電容器的下極板(10)、上極板(12)、工作TFT柵極(13)、工作TFT漏極(23)、工作TFT源極(22)、控制TFT柵極(15)、控制TFT漏極(21)、控制TFT源極(19)以及各種引線的材料為Mo、Au、Cu、Ag、Ni或Al中的一種或幾種的搭配與組合,或者它們的合金,或者金屬與合金的搭配與組合。
5.根據權利要求1,所述的TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:絕緣層(25)和鈍化保護層(26)采用SiOx、SiNx或SiOxNy絕緣材料。
6.根據權利要求1所述的TFT-LED彩色陣列顯示基板,其特征在于:工作TFT溝道(17)和控制TFT溝道(18)采用非晶硅、多晶硅或者單晶硅。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





