[發明專利]單晶爐坩堝防塵裝置

無效

• 申請號: 201110366050.8
• 申請日: 2011-11-18
• 公開（公告）號: CN102400207A
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發明（設計）人: 吳學軍;周凱平
• 申請（專利權）人: 寧夏日晶新能源裝備股份有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00
• 代理公司: 銀川長征知識產權代理事務所 64102
• 代理人: 馬長增

技術領域：

單晶爐坩堝防塵裝置屬于機電技術領域，特別涉及多晶硅轉化為單晶硅拉制過程中單晶爐坩堝防塵。

背景技術：

單晶爐是多晶硅轉化為單晶硅工藝過程中的必備設備，而單晶硅又是光伏發電和半導體行業中的基礎原料；單晶硅作為現代信息社會的關鍵支撐材料，是目前世界上最重要的單晶材料之一，它不僅是發展計算機與集成電路的主要功能材料，也是光伏發電利用太陽能的主要功能材料。在硅單晶拉制前，利用單晶爐坩堝防塵裝置可防止作業雜質掉入磁流體內，造成磁流體卡死，不旋轉，影響拉晶質量；眾所周知，目前單晶爐坩堝裝置，采用防塵裝置密固性能差，容易造成設備損壞，晶棒精度低等現象。

發明的內容：

本發明單晶爐坩堝防塵裝置發明目的在于：解決單晶爐晶體拉制過程中產生雜質易掉入磁流體、造成設備易損壞問題，設計制造一種與現有技術不同坩堝防塵裝置。

本發明單晶爐坩堝防塵裝置是這樣實現的：含雜質和磁流體，由坩堝軸、壓緊套和防塵法蘭組成；坩堝軸為水冷焊接件和磁流體同軸心套裝，在磁流體上平面和坩堝軸外圓軸面同軸心安裝防塵法蘭；壓緊套套裝在防塵法蘭外側并通過螺釘固定在坩堝軸上。

在硅單晶拉制過程中，利用單晶爐坩堝防塵裝置可防止作業時雜質掉入磁流體內，導致磁流體卡死、不旋轉，影響拉晶質量。

本發明單晶爐坩堝防塵裝置的有益效果是：在硅單晶拉制過程中，單晶爐坩堝防塵裝置可防止作業時雜質掉入磁流體內，造成磁流體卡死，不旋轉，影響拉晶質量；降低成本，提高作業效率。

附圖說明：

附圖為本發明單晶爐坩堝防塵裝置結構示意圖。

圖中：坩堝軸1、壓緊套2、雜質3、磁流體4、防塵法蘭5。

具體實施方式：

本發明單晶爐坩堝防塵裝置，含雜質3和磁流體4，由坩堝軸1、壓緊套2和防塵法蘭5組成；坩堝軸1為水冷焊接件和磁流體4同軸心套裝，在磁流體4上平面和坩堝軸1外圓軸面同軸心安裝防塵法蘭5；壓緊套2套裝在防塵法蘭5外側并通過螺釘固定在坩堝軸1上。