[發(fā)明專(zhuān)利]像素結(jié)構(gòu)、陣列基板及其制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110365265.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-11-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102508385A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高金字;郭晉川;呂雅茹 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 華映視訊(吳江)有限公司;中華映管股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 215217 江蘇省蘇州*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 像素 結(jié)構(gòu) 陣列 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是關(guān)于一種像素結(jié)構(gòu)、陣列基板及其制作方法,尤指一種具有用于保護(hù)金屬層的導(dǎo)電性保護(hù)層的像素結(jié)構(gòu)、陣列基板及其制作方法。
背景技術(shù)
由于液晶面板具有外型輕薄、耗電量少以及無(wú)輻射污染等特性,故已被廣泛地應(yīng)用在筆記型計(jì)算機(jī)(notebook)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)以及攝影機(jī)(video?camera)等攜帶式信息產(chǎn)品上。傳統(tǒng)液晶面板是由一陣列基板、一彩色濾光片基板以及一液晶層所構(gòu)成,且藉由控制陣列基板的一像素電極與彩色濾光片基板的一共通電極之間的電壓來(lái)調(diào)整液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn)角度,以顯示所欲的畫(huà)面。
一般而言,公知陣列基板包括復(fù)數(shù)條數(shù)據(jù)線、復(fù)數(shù)條掃描線、復(fù)數(shù)條共通線以及復(fù)數(shù)個(gè)薄膜晶體管。其中,掃描線、共通線與薄膜晶體管的柵極是由一第一金屬層所構(gòu)成,且數(shù)據(jù)線以及薄膜晶體管的源極與漏極是由一第二金屬層所構(gòu)成。并且,各薄膜晶體管具有半導(dǎo)體層作為其通道。然而,第一金屬層與第二金屬層一般使用鋁作為其材料,因此當(dāng)鋁與半導(dǎo)體層的硅相接觸時(shí),鋁容易產(chǎn)生摻雜效應(yīng)而擴(kuò)散至半導(dǎo)體層中,進(jìn)而影響各薄膜晶體管的操作。所以,為了避免由鋁所構(gòu)成的源極與漏極與硅產(chǎn)生摻雜效應(yīng),公知陣列基板會(huì)另于半導(dǎo)體層與第二金屬層之間設(shè)置一鉬金屬層。除此之外,公知陣列基板亦會(huì)于第一金屬層與第二金屬層上分別設(shè)置另一鉬金屬層,以避免由鋁所構(gòu)成的第一金屬層與第二金屬層受到氧化或腐蝕。
然而,在公知陣列基板的制作方法中,第一金屬層與其上的鉬金屬層是于同一蝕刻制程中所形成,且第二金屬層與其上下的鉬金屬層亦于同一蝕刻制程中所形成。并且,鋁與鉬的蝕刻速率并不相同,所以所形成的第一金屬層、第二金屬層與鉬金屬層會(huì)有懸突的情況,造成后續(xù)形成的絕緣層與保護(hù)層有覆蓋不佳的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的之一在于提供一種像素結(jié)構(gòu)、陣列基板及其制作方法,以節(jié)省制作成本,并解決上述公知的問(wèn)題。
為達(dá)上述的目的,本發(fā)明提供一種像素結(jié)構(gòu),其包括一基板、一第一金屬圖案層、一絕緣層、一半導(dǎo)體圖案層、一第一導(dǎo)電性保護(hù)層、一第二金屬圖案層、一保護(hù)層、一第二導(dǎo)電性保護(hù)層以及一透明導(dǎo)電圖案層。基板具有至少一像素區(qū)。第一金屬圖案層設(shè)于基板上,且第一金屬圖案層具有一上表面。絕緣層設(shè)于第一金屬圖案層與基板上,且絕緣層與第一金屬圖案層的上表面接觸。半導(dǎo)體圖案層設(shè)于像素區(qū)中的絕緣層上,且第一導(dǎo)電性保護(hù)層設(shè)于半導(dǎo)體圖案層上。第二金屬圖案層設(shè)于第一導(dǎo)電性保護(hù)層上,且第二金屬圖案層包括一源極與一漏極。保護(hù)層設(shè)于第二金屬圖案層與絕緣層上,其中源極的一上表面是與保護(hù)層直接接觸。第二導(dǎo)電性保護(hù)層設(shè)于漏極上,且透明導(dǎo)電圖案層設(shè)于保護(hù)層與第二導(dǎo)電性保護(hù)層上。
為達(dá)上述的目的,本發(fā)明還提供一種陣列基板,其包括一基板、一第一金屬圖案層、一絕緣層、一半導(dǎo)體圖案層、一第一導(dǎo)電性保護(hù)層、一第二金屬圖案層、一保護(hù)層、一第二導(dǎo)電性保護(hù)層以及一透明導(dǎo)電圖案層。基板具有至少一像素區(qū)以及至少一接墊區(qū)。第一金屬圖案層設(shè)于基板上,且第一金屬圖案層包括位于像素區(qū)中的一柵極與位于接墊區(qū)中的一接墊。絕緣層設(shè)于第一金屬圖案層與基板上,其中柵極的一上表面與絕緣層直接接觸。半導(dǎo)體圖案層設(shè)于像素區(qū)中的絕緣層上,且第一導(dǎo)電性保護(hù)層設(shè)于半導(dǎo)體圖案層上。第二金屬圖案層設(shè)于第一導(dǎo)電性保護(hù)層上,且第二金屬圖案層包括一源極與一漏極。保護(hù)層設(shè)于第二金屬圖案層上。第二導(dǎo)電性保護(hù)層設(shè)于接墊上,且第二導(dǎo)電性保護(hù)層與接墊的一上表面以及漏極的一上表面直接接觸。透明導(dǎo)電圖案層設(shè)于保護(hù)層與第二導(dǎo)電性保護(hù)層上。
為達(dá)上述的目的,本發(fā)明提供一種陣列基板的制作方法。首先,提供一基板,且基板具有至少一像素區(qū)與至少一接墊區(qū)。接著,于基板上形成一第一金屬圖案層,且第一金屬圖案層包括位于像素區(qū)的一柵極以及位于接墊區(qū)的一接墊。然后,于第一金屬圖案層上形成一絕緣層。隨后,于像素區(qū)的絕緣層上形成一半導(dǎo)體圖案層,且于半導(dǎo)體圖案層上形成一第二金屬圖案層與一第一導(dǎo)電性保護(hù)層,且第二金屬圖案層包括一源極與一漏極。接著,于第二金屬圖案層與絕緣層上形成一保護(hù)層。然后,于保護(hù)層中形成一第一穿孔,且于第一穿孔中形成一第二導(dǎo)電性保護(hù)層。最后,于保護(hù)層上形成一透明導(dǎo)電圖案層。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
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- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





