[發明專利]濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法無效
| 申請號： | 201110364467.0 | 申請日： | 2011-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN103113126A | 公開（公告）日： | 2013-05-22 |
| 發明（設計）人： | 井敏;賀賢漢 | 申請（專利權）人： | 上海申和熱磁電子有限公司 |
| 主分類號： | C04B37/02 | 分類號： | C04B37/02 |
| 代理公司： | 上海東方易知識產權事務所 31121 | 代理人： | 沈原 |
| 地址： | 200444 上海市寶*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濕法 氧化 銅片 燒結 直接 方法 | ||
【權利要求書】：
1.濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，包括如下步驟：
第一步，對銅片進行預先表面處理；
第二步，將經過表面處理的銅片放入處理溶液中氧化；
第三步，將經過氧化的銅片進行清洗并烘干；
第四步，將烘干的銅片放入模具中預彎；
第五步，將預彎完畢的銅片放置在陶瓷片上燒結。
2.根據權利要求1所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述處理溶液為NaOH和K2S2O8的混合溶液。
3.根據權利要求2所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述處理溶液的比例是K2S2O8為27g/L～31g/L、NaOH為3g/L～5g/L或K2S2O8為83g/L～90g/L、NaOH為22g/L～31g/L。
4.根據權利要求3所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述處理溶液的溫度為35℃～45℃或30℃～45℃。
5.根據權利要求1所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述第二步中的氧化時間為2min～10min或2min～5min。
6.根據權利要求1所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述第三步中烘干包括熱風烘干或烘箱烘干。
7.根據權利要求1所述的濕法氧化銅片燒結直接敷銅的方法，其特征在于，所述模具的形狀為圓形。
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