[發明專利]遮擋結構及使用該遮擋結構的電容式觸控面板有效
| 申請號: | 201110364116.X | 申請日: | 2011-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN102520831A | 公開(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發明(設計)人: | 張廣健;潘良玉;王曉輝;唐晟;樂衛文 | 申請(專利權)人: | 浙江金徠鍍膜有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/044 | 分類號: | G06F3/044 |
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| 地址: | 321017 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 遮擋 結構 使用 電容 式觸控 面板 | ||
技術領域
本發明涉及觸控顯示技術領域,尤其涉及一種遮擋結構及使用該遮擋結構的電容式觸控面板。
背景技術
觸控面板根據其觸控原理的不同,分為電阻式觸控面板、電容式觸控面板、紅外式觸控面板以及聲波式觸控面板。
電阻式、紅外式、聲波式觸控面板由于其工作原理導致的缺陷,不適合用作手持移動終端的操作界面。電容式觸控面板由于其觸控靈敏度好、使用壽命長、不易被外界信號干擾等優點,被廣泛應用于手持移動終端。
電容式觸控面板又進一步分為表面電容式觸控面板和投射電容式觸控面板。表面電容式觸控面板由于僅能實現單點觸控,因此,其應用范圍也不廣泛。而投射電容式觸控面板由于其可實現多點觸控被廣泛應用。
投射電容式觸控面板包括基板,該基板分為功能區和周邊線路區。在該功能區所在的基板上設有X軸感測電極層、Y軸感測電極層。X軸感測電極層和Y軸感測電極層分別形成于基板的兩相背的表面。X軸感測電極層包括多條相互平行且間隔分布的X軸感應電極串列,Y軸感測電極層包括多條相互平行且間隔分布的Y軸感應電極串列,且X軸感應電極串列與Y軸感應電極串列在平行于基板的平面上的投影相垂直。在該周邊線路區所在的基板上設有多條連接所述X軸感測電極串列和Y軸感測電極串列的引線。
業界使用的電容式觸控屏通常包括上述電容式觸控面板和蓋板。在該蓋板上對應所述周邊線路區的位置處設有遮擋層。該遮擋層通常由黑色樹脂涂覆于所述蓋板表面而成,防止所述電容式觸控面板的引線影響電容式觸控屏的外觀。將設置有遮擋層的蓋板與設置有X軸感測電極層和Y軸感測電極層的電容式觸控面板進行貼合,形成所述電容式觸控屏。然而,由于所述遮擋層僅設置在蓋板上對應所述電容式觸控面板周邊線路區的位置,因此,該該遮擋層與所述蓋板表面之間具有一段差,在將所述蓋板與電容式觸控面板貼合時,在該段差處容易產生氣泡,影響所述電容式觸控屏的外觀。另外,由于所述遮擋層由黑色樹脂涂覆而成,容易因工藝或操作原因導致蓋板表面與所述周邊線路區對應的位置上的局部區域未被黑色樹脂覆蓋,造成漏光,或所述電容式觸控面板的引線影響外觀。
發明內容
有鑒于此,有必要提供一種防止漏光、防止氣泡且有利于提升外觀效果的遮擋結構。
此外,還有必要提供一種使用上述遮擋結構的電容式觸控面板。
一種遮擋結構至少包括第一遮擋層、第二遮擋層及由第一遮擋層與第二遮擋層重疊構成的第一臺階,該第一遮擋層與第二遮擋層中至少有一個是由不透光且絕緣的材料制成。
本發明提供的所述遮擋結構中,所述遮擋結構還包括第三遮擋層,該第三遮擋層設置于第二遮擋層上,并與所述第二遮擋層重疊構成一第二臺階。
本發明提供的所述遮擋結構中,所述第一遮擋層與第二遮擋層均由不透光且絕緣的材料制成。
一種電容式觸控面板包括基板,該基板具有第一表面,該第一表面分為第一區域和第二區域,該第一區域與第二區域相鄰,且該第二區域圍繞該第一區域,在該第一區域上設有電極層,在該第二區域上設有遮擋結構及多條引線,所述遮擋結構設置于所述基板的第一表面上,所述多條引線設置于所述遮擋結構上;所述遮擋結構至少包括第一遮擋層、第二遮擋層及由第一遮擋層和第二遮擋層重疊構成的第一臺階。
本發明提供的所述電容式觸控面板中,所述第一遮擋層設置于所述基板的第二區域上,所述第二遮擋層設置于所述第一遮擋層上,且該第二遮擋層在所述基板的第一表面上的投影被所述第一遮擋層在該基板的第一表面上的投影所覆蓋,所述第一、第二遮擋層相互重疊,并在靠近所述第一區域的一側形成所述第一臺階。
本發明提供的所述電容式觸控面板中,所述第二遮擋層在沿所述第一區域至第二區域的方向上的跨度小于第一遮擋層在該方向上的跨度。
本發明提供的所述電容式觸控面板中,所述第一遮擋層與第二遮擋層中至少有一個由不透光且絕緣的材料制成,并所述第一遮擋層與第二遮擋層在垂直于該基板的方向上的厚度相同。
本發明提供的所述電容式觸控面板中,所述電極層包括多條第一串列、多條第二串列及多個絕緣塊,所述多條引線分別與多條第一串列和第二串列連接,所述多條第一串列之間相互平行,所述多條第二串列之間相互平行,并該多條第一串列與多條第二串列相互交叉形成多個交叉點,在該交叉點處,設有用于將第一串列及第二串列絕緣開的絕緣塊,所述第一遮擋層、第二遮擋層與所述絕緣塊在同一制程中一并制成。
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