[發(fā)明專利]一種反向擠壓活動模具清理設備

有效

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• 申請日: 2011-11-16
• 公開（公告）號: CN102423772A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發(fā)明（設計）人: 李其秀
• 申請（專利權）人: 太原重工股份有限公司
• 主分類號: B21C35/04
• 分類號: B21C35/04
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 馮志云;呂俊清

技術領域

本發(fā)明涉及模具的清理設備，特別涉及一種反向擠壓工藝中活動模具的清理。

背景技術

近年來，反向擠壓工藝因為其工藝優(yōu)越性，逐漸得到普及與發(fā)展，反向擠壓機的噸位也越來越大。如圖1所示，反向擠壓時，活動模具6固定在位于前梁7上的模軸71的端部，擠壓桿81(位于擠壓梁8上，移動方向如圖中箭頭所示)前進加壓，擠壓筒9(移動方向如圖中箭頭所示)內腔形成高壓容器，金屬鋁坯錠在高溫，高壓下產生塑性變形，從模具6口流出(移動方向如圖中箭頭所示)，形成制品。但在該反向擠壓過程中，在擠壓筒9內壁上會粘附金屬鋁殘余，對下一擠壓周期的供錠過程產生影響。

如圖2與圖3所示，為清理擠壓筒9內壁上粘附的金屬鋁殘余，在模具6圓周方向對稱加工有四個具有臺階的凹槽61。采用凹槽61后，由于擠壓筒9相對模具6移動時，擠壓筒9內壁粘附的殘留金屬鋁會被模具6上的凹槽61臺階刮下并收集到凹槽61內，這樣可以及時清理掉擠壓筒9內壁的殘留金屬鋁，避免對下一周期供錠產生影響。采用該種模具6雖然可以解決擠壓筒9內壁粘附金屬鋁殘余的問題，但同時產生一個新問題，即每一擠壓周期內活動模具6圓周方向的凹槽61內都會粘連金屬鋁，意味著每一擠壓周期結束后都需要及時清理掉粘連在活動模具6圓周方向凹槽61內的金屬鋁。

目前，對粘連在活動模具6圓周方向凹槽61的金屬鋁的清理，采用人工使用工具的傳統(tǒng)清理方式。每一次擠壓周期結束后都需要人工輔助清理模具6，不僅造成人力資源的浪費，而且耗費時間長，生產效率低，同時人工清理效果得不到保證，并且因為模具6高溫下操作，對操作人員來說存在嚴重的安全隱患。

發(fā)明內容

針對現有技術中存在的問題，本發(fā)明的目的為提供一種自動化的、對模具圓周方向的金屬鋁清理質量好、效率高且安全隱患少的反向擠壓活動模具清理設備。

為實現上述目的，本發(fā)明的技術方案如下：

一種反向擠壓活動模具清理設備，包括：

預應力框架，所述預應力框架包括上座和下座，所述上座和所述下座相對固定設置；

模具夾緊定位裝置，所述模具夾緊定位裝置具有位置對應用于共同夾緊模具的上組件與下組件，所述上組件安裝在所述上座上，包括能夠上下移動的上支承座，所述下組件安裝在所述下座上，包括能夠上下移動的下支承座；

剪刀片移動裝置，所述剪刀片移動裝置安裝在所述上座或所述下座上，所述剪刀片移動裝置包括與所述模具上收集殘留鋁的凹槽相配的剪刀片，所述剪刀片能夠上下移動；

模具旋轉移動裝置，所述模具旋轉移動裝置安裝在所述預應力框架中部，包括位置對應用于共同前后移動和旋轉所述模具的前組件與后組件，所述前組件與后組件任一組件中包括旋轉電機；

激光測量控制裝置，所述激光測量控制裝置檢測所述模具旋轉位置，并通訊連接所述旋轉電機。

進一步，所述下座固定安裝在地面上，所述上座和所述下座之間通過立柱固定連接。

進一步，所述上支承座為V型，所述上組件包括上油缸，所述上油缸的缸體固定安裝在所述上座上，，所述上V型支承座與所述上油缸的活塞桿相連；所述下支承座為V型，所述下組件包括下油缸，所述下油缸的缸體固定安裝在所述下座上，，所述下V型支承座與所述下油缸的活塞桿相連。

進一步，所述剪刀片固定安裝在動梁上，所述上座上固定安裝有主剪導向套及主剪油缸缸體，所述動梁上部與所述主剪油缸的活塞桿相連，所述動梁兩側固定連接主剪導向桿，所述主剪導向桿滑動套裝在所述主剪導向套中。

進一步，所述前組件包括固定安裝在所述預應力框架中部的前拉梁，所述前拉梁上安裝有前油缸的缸體，所述前油缸的活塞桿與前旋轉座固定連接，所述前旋轉座上轉動安裝前旋轉盤組件，所述前旋轉盤組件還傳動連接有用于旋轉所述旋轉盤的旋轉電機；所述后組件包括固定安裝在所述預應力框架中部的后拉梁，所述后拉梁上安裝有后油缸的缸體，所述后油缸的活塞桿與后旋轉座固定連接，所述后旋轉座上轉動安裝后旋轉盤組件。

本發(fā)明的有益效果在于，本發(fā)明在激光測量控制裝置控制下，通過模具旋轉移動裝置將模具旋轉到位，并采用模具夾緊定位裝置夾緊模具，然后通過剪刀片移動裝置驅動剪刀片剪除模具圓周方向的金屬鋁，清理完一面后再通過模具旋轉移動裝置旋轉模具到另一操作面，實現對模具圓周方向金屬鋁的徹底清理，本發(fā)明對模具圓周方向金屬鋁的清理過程高效、快捷、質量好，實現了完全的自動化，減少了生產中的安全隱患。

附圖說明

下面結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明：