[發(fā)明專利]一種導流洞地下閘室的布置結構

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110360916.4
• 申請日: 2011-11-15
• 公開（公告）號: CN102367662A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發(fā)明（設計）人: 王仁坤;鄭家祥;黎昀;唐朝陽;馮菊;陳安榮;穆建志
• 申請（專利權）人: 中國水電顧問集團成都勘測設計研究院
• 主分類號: E02B9/02
• 分類號: E02B9/02;E02B8/06
• 代理公司: 成都虹橋專利事務所 51124
• 代理人: 楊冬

1.一種導流洞地下閘室的布置結構，包括布置在山體或巖體(5)內的導流洞(1)、設置在該導流洞(1)橫截面上的下閘室(4)，以及位于下閘室(4)上方的布置啟閉設備的上閘室(2)，其特征在于：還包括堅井(3)，上閘室(2)和下閘室(4)通過堅井(3)連接；所述上閘室(2)、堅井(3)和下閘室(4)構成的組合體位于山體或巖體(5)內的導流洞(1)的橫截面上。

2.根據權利要求1所述的一種導流洞地下閘室的布置結構，其特征在于：上閘室(2)位于下閘室(4)的正上方。

3.根據權利要求1所述的一種導流洞地下閘室的布置結構，其特征在于：所述上閘室(2)、堅井(3)和下閘室(4)構成的組合體位于導流洞(1)進口或出口部位的山體或巖體(5)內。