[發明專利]正性光刻膠組成物及其制備方法

無效

• 申請號: 201110360724.3
• 申請日: 2011-11-15
• 公開（公告）號: CN102402119A
• 公開（公告）日: 2012-04-04
• 發明（設計）人: 楊洪;趙曉芳;郭玲香;林保平
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 南京天翼專利代理有限責任公司 32112
• 代理人: 湯志武

1.一種可在堿性水溶液中顯影的正性光刻膠組成物，該光刻膠包括：

a)光刻膠樹脂，

b)光刻膠溶劑，

所述的光刻膠溶劑為能溶解光刻膠樹脂的有機溶劑，且按重量計，光刻膠樹脂占光刻膠溶劑的5％～30％。

2.如權利要求1所述的正性光刻膠組成物，其特征在于，所述光刻膠樹脂為一種共聚物，且按重量計，含有0-25％具有式Ia的重復結構單元和0-25％具有式Ib的重復結構單元和50-100％具有Ic的重復結構單元

式中，R₁、R₂、R₃彼此獨立，為氫原子或者甲基，R₄為單元脂環，R₅為二元或三元脂環，R₆為含有鄰硝基芐基結構的基團。

3.如權利要求1所述的正性光刻膠組成物，其特征為，光刻膠溶劑為四氫呋喃、甲基乙基酮、丙酮、環己酮、乙二醇、丙二醇、N，N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、甲醚、乙醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的1種或2種。

4.如權利要求2所述的正性光刻膠組成物，其特征為R₄為由五個碳原子或者六個碳原子組成的單元脂環。

5.如權利要求2所述的正性光刻膠組成物，其特征為R₅為金剛烷及其衍生物或者異冰片基。

6.如權利要求2、4或5所述的正性光刻膠樹脂，其特征在于可采用原子轉移自由基聚合法ATRP、可逆加成斷裂鏈轉移法RAFT兩種活性自由基聚合方法進行制備。

7.如權利要求1～6所述的正性光刻膠組成物，其特征在于用以下方法得到細微圖形結構，將權利要求1～6所述的正性光刻膠組成物旋涂在基片上，在除去溶劑后，將所獲得的光刻膠放于光掩模板下進行曝光，然后在顯影液中顯影。

8.如權利要求7所述，所用的顯影液可以為堿性水溶液。