[發(fā)明專利]被動調(diào)Q微片激光器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110359927.0
• 申請日: 2011-11-14
• 公開（公告）號: CN102420385A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王璞;曹鐿;劉江
• 申請（專利權(quán)）人: 北京工業(yè)大學
• 主分類號: H01S3/08
• 分類號: H01S3/08;H01S3/06;H01S3/042
• 代理公司: 北京思海天達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203
• 代理人: 劉萍

1.一種被動調(diào)Q的微片激光器，包括激光增益介質(zhì)、石墨烯或碳納米管可飽和吸收體、光學元件或光學材料以及LD泵浦裝置；其特征在于：在增益介質(zhì)泵浦端面鍍對泵浦光增透光學膜、或者對激光全反射或部分反射光學膜，或者同時鍍上述增透光學膜和反射光學膜；光學元件鍍對激光全反射或部分反射光學膜，利用增益介質(zhì)和光學元件的鍍膜作前后腔鏡構(gòu)成平平腔或平凹腔，將厚度0.5納米至5納米的石墨烯、碳納米管可飽和吸收體緊密夾貼于激光器增益介質(zhì)與光學元件之間構(gòu)成三明治結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：所制備的石墨烯或碳納米管材料可飽和吸收體厚度為0.5納米至5納米；石墨烯可飽和吸收體中石墨烯材料的層數(shù)1至10層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：激光增益介質(zhì)為Nd:YAG晶體、Nd:YVO₄晶體、Er:Yb:glass激光材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：光學元件為溫度補償介質(zhì)、倍頻晶體、波片、對振蕩波長通過的光學玻璃或晶體器件或材料，以及此類器件或材料的組合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：使用膠合、光膠或深化光膠的方法將微片激光器器件全固化為三明治結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：使用LD直接端面泵浦，采用光纖耦合輸出LD經(jīng)光學系統(tǒng)進行端面泵浦。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：依次包括LD泵浦源(601)、準直系統(tǒng)(602)、激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成的三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)泵浦端面鍍有對泵浦光增透并對激光全反射的光學膜，其與鍍有對激光部分反射光學膜的光學元件(402)作前后腔鏡構(gòu)成平行平面諧振腔或平凹腔；

光纖耦合輸出LD泵浦源(601)提供泵浦，泵浦光經(jīng)準直系統(tǒng)(602)聚焦到激光增益介質(zhì)(301)泵浦端面并耦合注入；激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)泵浦端面鍍有對泵浦光增透并對激光全反射的光學膜，其與鍍有對激光部分反射光學膜的光學元件(402)作前后腔鏡構(gòu)成平行平面諧振腔或平凹腔；石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)作為激光調(diào)Q裝置，調(diào)Q脈沖激光通過光學元件(402)輸出。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：依次包括LD泵浦源，LD泵浦源(601)緊貼激光增益介質(zhì)(301)；激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成的三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)泵浦端面鍍有對泵浦光增透并對激光全反射的光學膜，其與鍍有對激光部分反射光學膜的光學元件(402)作前后腔鏡構(gòu)成平行平面諧振腔或平凹腔；

LD泵浦源(601)緊貼于激光增益介質(zhì)(301)進行端面泵浦；激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)泵浦端面鍍有對泵浦光增透并對激光全反射的光學膜，其與鍍有對激光部分反射光學膜的光學元件(402)作前后腔鏡構(gòu)成平行平面諧振腔或平凹腔；石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)作為激光調(diào)Q裝置，調(diào)Q脈沖激光通過光學元件(402)輸出。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種被動調(diào)Q的微片激光器，其特征在于：依次包括LD泵浦源(601)、準直系統(tǒng)(602)、部分反射鏡(603)；激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成的三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)的泵浦端面鍍有對泵浦光增透同時對激光部分反射的光學膜，其與對激光和泵浦光全反射的光學元件(402)構(gòu)成諧振腔；

LD泵浦源(601)經(jīng)準直系統(tǒng)(602)和部分反射鏡(603)耦合注入激光增益介質(zhì)(301)；激光增益介質(zhì)(301)與光學元件(402)將石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)緊密夾貼在中間，構(gòu)成三明治結(jié)構(gòu)；激光增益介質(zhì)(301)的泵浦端面鍍有對泵浦光增透同時對激光部分反射的光學膜，其與對激光和泵浦光全反射的光學元件(402)構(gòu)成諧振腔；石墨烯或碳納米管可飽和吸收體(201)作為激光調(diào)Q裝置，調(diào)Q脈沖激光從增益介質(zhì)泵浦端面經(jīng)部分反射鏡(603)反射輸出。