[發明專利]下陷印刷釉及其制作方法

有效

• 申請號: 201110359585.2
• 申請日: 2011-11-14
• 公開（公告）號: CN102491786A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 蔡國楨;杜文男
• 申請（專利權）人: 星誼精密陶瓷科技（昆山）有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

技術領域

本發明涉及一種陶瓷釉面。

背景技術

陶瓷釉，是覆蓋在陶瓷制品表面的無色或有色的玻璃質薄層。是一種用于陶瓷產品。

目前，通常的陶瓷釉面，其圖案平滑，缺乏立體感，顯得呆板。為使陶瓷釉面產生具有立體感的凹凸浮雕圖案，解決的方法是，將原料注入模具和壓機內或將原料放入特定的模具內，通過機械成型得到坯體，再經上釉和燒成制得凹凸感的地面裝飾磚。顯而易見，這種方法由于需要特定的模具，這就給生產上帶來了增加設備投資及工藝復雜化的問題。中國發明專利申請公開說明書CN1535849A公開一種使陶瓷釉面產生凹凸浮雕團的方法，該方法存在兩方面的缺陷，一是素坯需要進行拋光處理，因此對素坯的強度要求比沒進行拋光的要高；二是由于貼紙是在未燒面釉下面，假如面釉釉燒后是白色不透明那印刷于未釉燒面釉上的圖案和面釉底下的貼紙圖案無法完美搭配；三是需要將涂料印刷在貼紙上并將貼紙貼于素坯上，再經850℃排除貼紙，此種方法限制多，需要增加設備和提高坯體強度，加工成本高，無法大量生產等缺點。

發明內容

本發明的目的是提供一種下陷印刷釉及其制作方法，以克服現有技術存在的上述缺陷。

所述的下陷印刷釉，由如下重量百分比的組分組成：

低溫溶劑????????????????40～65％

石英????????????????????20～40％

五氧化二釩??????????????15～20％

以上各個組分的百分比之和為100％。

所述低溫溶劑由如下重量百分比的組分組成：

以上各個組分的百分比之和為100％。

優選的，所述低溫溶劑由如下重量百分比的組分組成：

所述低溫溶劑，是這樣制備的：

將鉛丹、滑石、長石、二氧化鈦和石英分別球磨至120目篩網全過，過篩混合，在1240℃～1250℃下煅燒45min～60min小時，獲得低溫溶劑；

其中：各個組分的重量用量為：

獲得的低溫溶劑，其中各個組分的重量百分比為：

以上各個組分的百分比之和為100％。

所述的下陷印刷釉的制造方法，包括如下步驟：

將低溫溶劑、石英和五氧化二釩混合，再加混合料總重量的30～40％的水球磨成細度為325目篩余0～0.3％(重量)，然后烘干，粉碎至細度為120目篩余0(重量)的細粉，即為產品。

其中，各個組分百分比為：

低溫溶劑????????????????40％～65％

石英????????????????????20％～40％

五氧化二釩????????????????15％～20％

所述下陷印刷釉的使用方法，包括如下步驟：

將下陷印刷釉加入印刷花釉中，參合量多少視需要下陷深度來決定，下陷深度深則多加點，下陷深度淺則少加點，一般下陷印刷釉參合的重量比例為10％～90％；

所述印刷花釉為本領域公知的陶瓷釉面；

然后將下陷印刷釉和印刷花釉的混合物，采用絲網網版，在施了釉但尚未釉燒的釉面上印上含有本發明材料的圖案，，在溫度為1140～1188℃進行燒制，燒成時間為45～60min；

所獲得的陶瓷產品，表面的圖案，將產生凹凸，使產品產生立體感很強的凹凸感。

本發明下陷釉可以當做普通印刷釉參合在印花花釉中印刷于未燒面釉上，不影響花釉發色，對于下陷深淺度可以根據參合量來控制，需要下陷深度深加一些，需要下陷深度淺則少加一些。本發明不需要特殊的模具，只是在施了釉但尚未釉燒的釉面上印上含有本發明材料的圖案，釉燒后便在釉面上產生了具有凹凸感的圖案。用這種方法產生的凹凸感圖案，立體感強，色彩豐富，工藝簡單，成本低廉，裝飾效果新穎，適合工廠產業化生產。

具體實施方式

實施例1

低溫溶劑的制備：

將鉛丹、滑石、長石、二氧化鈦和石英分別球磨至120目篩網全過，過篩混合，在1250℃下煅燒45min，獲得低溫溶劑，其中：

各個組分的重量百分比為：

PbO：65.15％；MgO?0.51％；TiO₂：0.47％；Al₂O₃：2.52％；SiO₂：29.39％；K₂O：1.57％；Na₂O：0.39％。