[發明專利]一種真空泵水冷結構

無效

• 申請號: 201110358356.9
• 申請日: 2011-11-11
• 公開（公告）號: CN103104496A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 張振厚;王光玉;于明鶴
• 申請（專利權）人: 中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司
• 主分類號: F04C29/04
• 分類號: F04C29/04
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

技術領域

本發明屬于真空泵技術領域，具體地說是一種真空泵水冷結構。

背景技術

干式真空泵是一種泵內不用油類(或液體)密封的變容真空泵。由于干式真空泵泵腔內不需要工作液體，因此，適用于半導體行業、化學工業、制藥工業及食品行業等需要無油清潔真空環境的工藝場合。

隨著半導體工業、電子工業的蓬勃興起，對于真空環境的要求越來越多、越來越嚴格。由于由普通的油封機械泵、擴散泵所組成的真空系統易于向真空室中返油，真空室中的油分子會在硅片晶體上沉積，使硅晶體成為廢品。所以這樣的真空系統在半導體工業、電子工業中的應用受到了限制。相反，由于干式真空泵不需要潤滑油來潤滑密封，做到了無油蒸汽污染，而且對被抽氣體中含有的灰塵和水蒸氣不敏感。所以，由干式真空泵組成的真空系統得到了廣泛的應用，并在半導體工業、電子工業的發展過程中起到了推動的作用。

由于在半導體工藝中，使用的氣體往往都是比較高的溫度。高溫氣體經過反應腔進入泵體內部，最后經泵的排氣口排出。因此氣體將部分熱量傳給了干泵，同時由于多級干泵自身也不斷壓縮氣體，產生大量熱量，這些熱量也有很大一部分傳導到泵體上。經過多方面的熱量傳導干泵自身的溫度就比較高，使得泵體內部的零部件由于高溫而變形，這對泵自身的壽命以及人員安全都造成威脅。因此通過對泵體的冷卻從而達到保護泵自身及使用人員的安全成為亟待解決的問題。

發明的內容

針對上述問題，本發明的目的在于提供一種真空泵水冷結構。該真空泵水冷結構極大地增加了冷卻水與泵體的接觸面積，從而增強了冷卻效果。

為了達到上述目的，本發明采用以下技術方案：

一種真空泵水冷結構，包括依次相連的進氣腔體、多級腔體及排氣腔體，所述進氣腔體、多級腔體及排氣腔體上均設有水流通道，各相鄰腔體上的水流通道相通；所述水流通道的進水口設在進氣腔體上，回水口設在排氣腔體上。

所述進氣腔體的下部設有泄水口。

所述進水口設在進氣腔體的下部。

所述回水口設在排氣腔體的上部。

所述水流通道在各腔體上圍繞一周。

所述多級腔體包括依次相連的一級腔體、一級隔板、二級腔體、三級腔體、四級腔體。

所述一級腔體、一級隔板、二級腔體、三級腔體、四級腔體上水流通道的兩端口處均設有凹槽。

所述凹槽內設有O型密封圈。

所述水流通道與各腔體為一體鑄造。

本發明具有以下的優點：

本發明相對于傳統的盤管冷卻，極大地增加了冷卻水與泵體的接觸面積，從而增強了冷卻效果。腔體內水流通道為鑄造完成無需加工，省去了水管和固定零件，節約了成本，同時無需人工盤管，減少了勞動時間，增加效率。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖；

圖2是圖1的左視圖；

圖3是圖1的俯視圖；

圖4是圖3的A-A剖視圖；

其中：1為進氣腔體，2為一級腔體，3為一級隔板，4為二級腔體，5為三級腔體，6為四級腔體，7為排氣腔體，8為泄水口，9為水流通道，10為進水口，11為回水口。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步描述。

如圖1～4所示，本發明包括依次相連的進氣腔體1、多級腔體及排氣腔體7，進氣腔體1、多級腔體及排氣腔體7上均設有水流通道9，水流通道9在各腔體上圍繞一周，并可S形環繞，加大冷卻面積。各相鄰腔體上的水流通道9相通；水流通道9的進水口10設在進氣腔體1的下部，回水口11設在排氣腔體7的上部。進氣腔體1的最下部設有泄水口8。

所述多級腔體包括依次連接的一級腔體2、一級隔板3、二級腔體4、三級腔體5、四級腔體6。在一級腔體2、一級隔板3、二級腔體4、三級腔體5、四級腔體6上的水流通道9的兩端口處均設有凹槽，即密封槽。所述凹槽內設有0型密封圈進行靜密封，再通過各個腔體間的連接壓緊，進行有效的密封。

各腔體內的水流通道9與各腔體為一體鑄造完成，無需加工，省去了水管和固定零件，節約了成本，同時無需人工盤管，減少了勞動時間，增加效率。

本發明的工作過程是：

冷卻水由進氣腔體1上的進水口10進入進氣腔體1內的水流通道9，再經由一級腔體2、一級隔板3、二級腔體4、三級腔體5、四級腔體6、排氣腔體7的水流通道9實現泵體內部的冷卻，最后從排氣腔體7上的回水口11排出。若將各腔體內的冷卻水排凈，則從泄水口8排出。