[發(fā)明專利]一種帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110358231.6
• 申請(qǐng)日: 2011-11-11
• 公開（公告）號(hào): CN103103485A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮彬;郭東民;佟輝;周景玉;劉麗華;張雪;戚暉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器研制中心有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 沈陽(yáng)科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

1.一種帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)，其特征在于：包括磁控室(1)、單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)、第一電機(jī)(4)、手動(dòng)基片擋板組件(5)、磁控靶(6)、機(jī)臺(tái)架(7)及真空抽氣系統(tǒng)，其中磁控室(1)安裝在機(jī)臺(tái)架(7)上、與位于機(jī)臺(tái)架(7)內(nèi)的真空抽氣系統(tǒng)相連，在磁控室(1)內(nèi)均布有多個(gè)安裝在磁控室(1)的下法蘭(15)上的磁控靶(6)；所述單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在磁控室(1)的上蓋(2)上，單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)的一端載有基片、插入磁控室(1)內(nèi)，位于各磁控靶(6)的上方，另一端位于上蓋(2)的上方；所述上蓋(2)上安裝有帶動(dòng)單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)旋轉(zhuǎn)的第一電機(jī)(4)；所述單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)所載基片的下方設(shè)有安裝在上蓋(2)上的手動(dòng)基片擋板組件(5)。

2.按權(quán)利要求1所述帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)，其特征在于：所述機(jī)臺(tái)架(7)內(nèi)安裝有電動(dòng)提升機(jī)構(gòu)(14)，該電動(dòng)提升機(jī)構(gòu)(14)的輸出端由機(jī)臺(tái)架(7)穿出、與磁控室(1)的上蓋(2)相連接，帶動(dòng)上蓋(2)及上蓋(2)上的單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)及第一電機(jī)(4)升降。

3.按權(quán)利要求1或2所述帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)，其特征在于：所述單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)具有一個(gè)冷卻工位、處于單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)的中間，各磁控靶(6)位于該單冷卻自轉(zhuǎn)盤(3)冷卻工位的周圍。

4.按權(quán)利要求1或2所述帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)，其特征在于：所述磁控靶(6)傾斜于基片設(shè)置，每個(gè)磁控靶(6)上方均設(shè)有一個(gè)磁控靶擋板(8)，該磁控靶擋板(8)與安裝在機(jī)臺(tái)架(7)內(nèi)部的第二電機(jī)相連，通過第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)開關(guān)磁控靶擋板(8)。

5.按權(quán)利要求1或2所述帶有單冷卻自轉(zhuǎn)盤的磁控濺射系統(tǒng)，其特征在于：所述手動(dòng)基片擋板組件(5)包括轉(zhuǎn)軸及擋板，其中轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝在上蓋(2)上，轉(zhuǎn)軸的下端連接有擋板。