[發(fā)明專利]背光模塊及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110358184.5 | 申請日: | 2011-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN102494264A | 公開(公告)日: | 2012-06-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 沈文臺;林蘇逸 | 申請(專利權)人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | F21S8/00 | 分類號: | F21S8/00;F21V7/00;G02F1/13357;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;祁建國 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 背光 模塊 顯示裝置 | ||
1.一種背光模塊,其特征在于,包含:
一反射板,具有一反射面;以及
多個光源,設置于該反射面上,并朝向遠離該反射面的方向發(fā)光;
其中,該反射面包含多個低反射部,該低反射部的反射率低于該反射面其它位置的反射率,該低反射部位于該光源與相鄰光源形成的區(qū)域內(nèi)。
2.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,所述光源采格狀分布,并位于該格狀分布的節(jié)點上,每一該低反射部位于該格狀分布的格內(nèi)。
3.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,所述低反射部中,較接近該反射面中心者具有較大的面積。
4.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,所述低反射部中,較接近該反射面中心者具有較低的反射率。
5.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,該低反射部包含至少一開口或至少一印刷圖案。
6.根據(jù)權利要求5所述的背光模塊,其特征在于,該低反射部包含填充于該開口內(nèi)的一吸光材料。
7.根據(jù)權利要求5所述的背光模塊,其特征在于,該印刷圖案包含一吸光材料。
8.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,該低反射部包含一主吸光部及至少一輔助吸光部鄰近該主吸光部分布。
9.根據(jù)權利要求8所述的背光模塊,其特征在于,該輔助吸光部包含多個吸光點,每一吸光點的面積小于該主吸光部的面積。
10.根據(jù)權利要求8所述的背光模塊,其特征在于,該輔助吸光部包含至少一吸光環(huán),該主吸光部的直徑大于該至少一吸光環(huán)的環(huán)帶寬度。
11.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,該光源在發(fā)光張角在自該反射面法線起算60度至80度間有一強度峰值。
12.根據(jù)權利要求11所述的背光模塊,其特征在于,該強度峰值產(chǎn)生的發(fā)光張角小于該反射面法線起算的74度。
13.根據(jù)權利要求1所述的背光模塊,其特征在于,進一步包含一光學層設置于所述光源上方并與該反射面相對;其中,該反射面至該光學層的間距H與任二該光源經(jīng)過該低反射部的最近直線距離P的一第一比值H/P不大于0.3。
14.根據(jù)權利要求13所述的背光模塊,其特征在于,當該第一比值實質(zhì)為0.3時,該低反射部的最大寬度W與任二該光源經(jīng)過該低反射部的最近直線距離P的一第二比值W/P介于0.12至0.2間。
15.根據(jù)權利要求13所述的背光模塊,其特征在于,當該第一比值實質(zhì)為0.28時,該低反射部的最大寬度W與任二該光源經(jīng)過該低反射部的最近直線距離P的該第二比值W/P介于0.08至0.14間。
16.根據(jù)權利要求13所述的背光模塊,其特征在于,當該第一比值實質(zhì)為0.26時,該低反射部的最大寬度W與任二該光源經(jīng)過該低反射部的最近直線距離P的該第二比值W/P介于0.04至0.1間。
17.一種背光模塊,其特征在于,包含:
一反射板,具有一反射面,其中該反射面上包含形成于該反射面上的多個低反射部具有低于該反射面其它位置的反射率;以及
多個光源,設置于該反射面上,并朝向遠離該反射面的方向發(fā)光;
其中,至少部分該光源為多個相鄰的該低反射部所圍繞。
18.根據(jù)權利要求17所述的背光模塊,其特征在于,該低反射部為形成于該反射面上的至少一開口或至少一印刷圖案。
19.根據(jù)權利要求17所述的背光模塊,其特征在于,該低反射部包含一吸光材料。
20.一種顯示裝置,其特征在于,包含:
一顯示面板;以及
如權利要求1至19中任一所述的背光模塊,其特征在于,用以提供該顯示面板光源。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于友達光電股份有限公司,未經(jīng)友達光電股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110358184.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





