[發明專利]一種半導體制程管理系統及方法

無效

• 申請號: 201110357671.X
• 申請日: 2011-11-11
• 公開（公告）號: CN103107117A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 馬小焰;葉日銓;張建軍;翁雪平
• 申請（專利權）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮;李辰

1.一種半導體制程管理系統，其特征在于包括：

一規格提供裝置，依據一半導體產品的電性參數設定制造該半導體產品所需的半導體制程中各機臺的參數規格；

一數據采集器，采集一設定時間內，所述半導體制程中各個機臺的參數樣本數據；

一計算機，接受所述參數樣本數據，并根據每一參數樣本數據計算得出對應機臺的制程性能值；以及

一判斷提醒裝置，判斷所述制程性能值是否在一標準范圍內，并且當該制程性能值超出該標準范圍時，提醒人員修改所述規格提供裝置設定的參數規格。

2.如權利要求1所述的半導體制程管理系統，其特征在于：所述規格提供者具有一輸入界面，用以提供人員進行各個機臺參數規格的輸入。

3.如權利要求1所述的半導體制程管理系統，其特征在于：所述參數規格為所述參數樣本數據3-10倍的標注偏差值或者是目標參數值的10％。

4.如權利要求1所述的半導體制程管理系統，其特征在于：所述數據采集器的數據采集方式為按次采集或者按周期間隔采集。

5.如權利要求1所述的半導體制程管理系統，其特征在于：所述數據采集器內置一定時器，所述定時器使得該數據采集器每隔一周期就記錄一次機臺的參數。

6.一種半導體制程管理方法，其特征在于包括步驟：

1)提供半導體制程中各個機臺的參數規格；

2)采集一設定時間內各個機臺的參數樣本數據；

3)根據上述每一機臺的參數樣本數據，計算該機臺的制程性能值；

4)判斷所述制程性能值是否超出一標準范圍，如果超出則提醒人員修改所述規格提供者設定的參數規格。

7.如權利要求6所述的半導體制程管理方法，其特征在于：所述的參數規格為所述參數樣本數據3-10倍的標注偏差值或者是目標參數值的10％。

8.如權利要求6所述的半導體制程管理方法，其特征在于：所述數據采集器的數據采集方式為按次采集或者按周期間隔采集。