[發明專利]基板用玻璃及玻璃基板

在審

• 申請號: 201110354761.3
• 申請日: 2011-10-25
• 公開（公告）號: CN102531383A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 遠藤淳;中島哲也;竹中敦羲
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: C03C3/083
• 分類號: C03C3/083;G11B5/62
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡燁

技術領域

本發明涉及磁盤(硬盤)等信息記錄媒體、被用于信息記錄媒體等的玻璃基板以及用于這些基板的玻璃。

背景技術

作為信息記錄媒體用基板、特別是作為磁盤用基板，玻璃基板被廣泛使用，已知以摩爾％表示的組成含有65.4％的SiO₂、8.6％的Al₂O₃、12.5％的Li₂O、10.5％的Na₂O、3.0％的ZrO₂的市售玻璃。該市售玻璃經化學強化處理后使用。

另一方面，提出了一種既可以進行化學強化處理也可以不進行化學強化處理的磁盤基板用玻璃A(參考專利文獻1)。該玻璃A以摩爾％表示含有61～66％的SiO₂、11.5～17％的Al₂O₃、8～16％的Li₂O、2～8％的Na₂O、2.5～8％的K₂O、0～6％的MgO、0～4％的TiO₂和0～3％的ZrO₂，Al₂O₃+MgO+TiO₂的含量之和為12％以上，Li₂O+Na₂O+K₂O的含量之和為16～23％，含有B₂O₃時其含量不足1％。

可是，在玻璃基板的制造工藝中，多使用含有氧化鈰磨粒的漿料進行研磨。例如，在制造用于磁盤等信息記錄媒體的玻璃基板時，使用含有氧化鈰磨粒的漿料將從玻璃板切割的玻璃圓板的主表面和端面研磨后，為了使主表面變得更加平坦，用含有膠態二氧化硅磨粒的漿料進行最終研磨。此時，即使在主表面有氧化鈰磨粒殘留也會通過最終研磨除去，但在端面附著的氧化鈰沒有除去而殘留，從而會有在最終研磨后的清洗工序中再次附著在主表面而成為產品缺陷的情況。

從這樣的背景出發，希望能將氧化鈰磨粒完全除去，提出了含有無機酸和還原劑的清洗液(例如，參考專利文獻2和3)。在該提案中，認為是通過無機酸和抗壞血酸的作用將氧化鈰磨粒溶解而除去。

此外，還提出了在最終工序中使用以加熱的硫酸為主成分的清洗液(例如，參考專利文獻4)的方案。

專利文獻1：日本專利特開2009-280478號公報

專利文獻2：日本專利特開2006-99847號公報

專利文獻3：日本專利特開2004-59419號公報

專利文獻4：日本專利特開2008-90898號公報

發明內容

由于這些清洗液的pH較低為2以下，所以會有在耐酸性低的玻璃的玻璃基板表面產生缺陷的情況。

上述玻璃A是耐酸性高的玻璃，認為在低pH的研磨工序和清洗工序中不會發生表面粗糙，但本發明人用80℃的硫酸-過氧化氫混合液清洗屬于玻璃A的玻璃時，確認產生了斑狀的缺陷(后述圖4)。

本發明是鑒于上述問題完成的發明，目的在于提供一種即使使用pH為2以下的清洗液在玻璃基板表面也不易產生缺陷、特別是耐酸性優良的信息記錄媒體用玻璃基板。

本發明提供一種基板用玻璃，以下述氧化物基準的摩爾％表示，含有62.5～69％的SiO₂、9～15.5％的Al₂O₃、8～16％的Li₂O、0～8％的Na₂O、0～7％的K₂O和0～3.5％的ZrO₂，其中SiO₂-Al₂O₃的含量之差為53.3％以上、Li₂O+Na₂O+K₂O的含量之和為17～24％，且上述6種成分的含量合計為97％以上。另外，例如，所述的含有0～8％的Na₂O是指Na₂O不是必要的至也可以含有8％的范圍的意思；SiO₂-Al₂O₃是從SiO₂的含量減去Al₂O₃的含量所得的差。