[發明專利]一種濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法在審
| 申請號: | 201110354286.X | 申請日: | 2011-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN103101993A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發明(設計)人: | 李艷波 | 申請(專利權)人: | 李艷波 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461;C02F1/72;C02F1/74 |
| 代理公司: | 北京市盛峰律師事務所 11337 | 代理人: | 趙建剛 |
| 地址: | 100022 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氧化 減少 水溶液 不良 溶解 濃度 方法 | ||
1.一種濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于,包括如下步驟:
第一步,在常溫常壓條件下,向待處理水溶液中加入氧化劑;
第二步,含有氧化劑的所述待處理水溶液通過電化學電極進行反應,減少所述待處理水溶液中的不良溶解物。
2.根據權利要求1所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:所述氧化劑為氣態或液態氧化劑,在所述第一步中要保證有足夠的所述氧化劑溶解在所述待處理水溶液中,以保證在第二步中當經過所述電化學電極時能夠產生大量的自由基。
3.根據權利要求2所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:所述氧化劑為氧氣或空氣。
4.根據權利要求1所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:所述電化學電極為碳材料的電化學電極。
5.根據權利要求4所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:所述電化學電極為摻硼金剛石材料的電化學電極。
6.根據權利要求1所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:在所述第一步中,還包括在常溫常壓條件下,在待處理水溶液中加入催化劑。
7.根據權利要求1所述的濕式氧化法減少水溶液中不良溶解物濃度的方法,其特征在于:還包括第三步,在所述第二步中處理后的所述待處理水溶液排出,或在所述第二步中處理后的所述待處理水溶液進入所述第一步重新處理進一步減少所述待處理水溶液中的不良溶解物。
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