[發明專利]色調劑、其制造方法、盒、圖像形成方法和圖像形成設備

有效

• 申請號: 201110353753.7
• 申請日: 2011-11-09
• 公開（公告）號: CN102707594A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 濱野弘一;田口哲也;藤田麻史;鐮田普;高木正博
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G9/097
• 分類號: G03G9/097;G03G9/09;G03G9/08;G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

1.一種靜電圖像顯影用色調劑，所述色調劑包含：

含有著色劑和粘合劑樹脂的著色顆粒，和

由外部添加至所述著色顆粒的表面的兩種以上無機顆粒，

其中

所述兩種以上無機顆粒含有含鈦顆粒和含二氧化硅顆粒，

所述著色顆粒的表面的露出率為約25％以下，并且

與所述著色顆粒接觸的含鈦顆粒的比例為約15個數％以下。

2.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中所述著色顆粒的表面的露出率為約16％以下。

3.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中在所述著色顆粒上所述含鈦顆粒的覆蓋率和所述含二氧化硅顆粒的覆蓋率的總和為約150％以下。

4.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中所述著色顆粒的表面的露出率為2％以上。

5.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中所述含二氧化硅顆粒具有約5nm～約40nm的體均粒徑。

6.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中所述含鈦顆粒具有約8nm～約50nm的體均粒徑。

7.如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑，其中，基于添加量，所述含鈦顆粒與所述含二氧化硅顆粒的覆蓋率之比為約1/2～約1/10。

8.一種如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑的制造方法，所述方法包括：

制備含有著色劑和粘合劑樹脂的著色顆粒；

通過濕式外部添加，在水性介質中將含二氧化硅顆粒添加至所述著色顆粒，以提供具有所添加的所述含二氧化硅顆粒的著色顆粒；和

通過干式外部添加將含鈦顆粒添加至具有所添加的所述含二氧化硅顆粒的著色顆粒。

9.如權利要求8所述的靜電圖像顯影用色調劑的制造方法，其中在所述含二氧化硅顆粒的添加中，所述水性介質中的所述含二氧化硅顆粒的量是使著色顆粒上的覆蓋率為約90％～約150％的量。

10.如權利要求8所述的靜電圖像顯影用色調劑的制造方法，其中在所述著色顆粒上所述含鈦顆粒的覆蓋率和所述含二氧化硅顆粒的覆蓋率的總和為約150％以下。

11.如權利要求8所述的靜電圖像顯影用色調劑的制造方法，其中所述著色顆粒的表面的露出率為約2％以上。

12.一種可從圖像形成設備上拆卸的盒，所述盒包含容納于其中的如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑。

13.一種圖像形成方法，所述方法包括：

在圖像保持部件的表面上形成靜電潛像；

使用色調劑將形成在所述圖像保持部件的表面上的所述靜電潛像顯影，以形成色調劑圖像；

將所述色調劑圖像轉印至轉印介質的表面；和

使轉印至所述轉印介質的表面的所述色調劑圖像定影，其中

所述色調劑為如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑。

14.如權利要求13所述的圖像形成方法，其中在所述著色顆粒上所述含鈦顆粒的覆蓋率和所述含二氧化硅顆粒的覆蓋率的總和為約150％以下。

15.如權利要求13所述的圖像形成方法，其中所述著色顆粒的表面的露出率為約2％以上。

16.一種圖像形成設備，所述設備包含：

圖像保持部件；

充電單元，所述充電單元對所述圖像保持部件充電；

曝光單元，所述曝光單元曝光經充電的所述圖像保持部件，以在所述圖像保持部件的表面上形成靜電潛像；

顯影單元，所述顯影單元使用色調劑將所述靜電潛像顯影，以形成色調劑圖像；

轉印單元，所述轉印單元將所述色調劑圖像由所述圖像保持部件轉印至轉印介質；和

定影單元，所述定影單元使轉印至所述轉印介質的表面的所述色調劑圖像定影，其中

所述色調劑為如權利要求1所述的靜電圖像顯影用色調劑。

17.如權利要求16所述的圖像形成設備，其中在所述著色顆粒上所述含鈦顆粒的覆蓋率和所述含二氧化硅顆粒的覆蓋率的總和為約150％以下。

18.如權利要求16所述的圖像形成設備，其中所述著色顆粒的表面的露出率為約2％以上。