[發明專利]對位裝置及對位方法

無效

• 申請號: 201110353021.8
• 申請日: 2011-11-09
• 公開（公告）號: CN102565082A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 加藤陽治
• 申請（專利權）人: 奧林巴斯株式會社
• 主分類號: G01N21/892
• 分類號: G01N21/892;G01N21/956
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

技術領域

本發明涉及一種使用于檢查裝置的對位裝置及對位方法，該檢查裝置用于對例如平板顯示器用的玻璃基板、半導體基板、印刷電路板等進行檢查。

背景技術

以往，在液晶顯示器(LCD：Liquid?Crystal?Display)、PDP(等離子體顯示面板：Plasma?Display?Panel)、有機EL(ElectroLuminescence)顯示器、表面傳導型電子發射元件顯示器(SED：Surface-conduction?Electro-emitter?Display)等FPD(Flat?Panel?Display)基板、半導體晶圓、印刷電路板等各種基板的制造中，為了提高其成品率，在各圖案處理之后，依次檢查是否存在布線的短路、連接不良、斷線、圖案不良等缺陷。基板檢查裝置是用于一邊自基板所載置的浮起用板的下方對基板進行照明一邊拍攝檢查對象的基板而進行基板檢查的、所謂透射照明型的基板檢查裝置。此外，根據檢查對象的基板的不同，也使用用于自拍攝基板的攝像元件側進行照明的落射(epi-illumination)照明型的基板檢查裝置。

但是，在用于對玻璃基板等具有較寬檢查對象面的基板進行檢查、測量等處理的基板檢查裝置中，在對檢查對象面的特定位置進行檢查時，參照根據登記在制程程序(recipe)中的座標而登記的模板來進行檢查對象基板的對象圖案的圖案匹配，并進行對位。但是，登記在制程程序中的對象圖案的座標與臺上實際的對象圖案的座標不一定一致，根據情況的不同，必須使攝像部或基板移動，重復進行多次圖案匹配而檢索對象圖案。

因此，公開有如下對位方法：預先設定以高倍率獲取的第1模板、以及用于與縮小了包含檢索對象圖像在內的較寬區域而成的圖像進行圖案匹配的第2模板，在無法利用第1模板進行圖案匹配而獲得對象圖案的情況下，使用第2模板進行圖案匹配(例如參照專利文獻1)。

先行技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第3246616號公報

但是，關于專利文獻1所公開的對位方法，在拍攝的圖像偏離于檢查區域的情況下，當在拍攝的位置將光學系統切換成低倍率而獲取了較寬范圍的低倍率圖像之后，需要再次進行圖案匹配，因此導致檢查時間增加。此外，多次操作所引起的攝像部或基板的移動也導致檢查時間增加。

發明內容

本發明是鑒于上述情況而做成的，其目的在于提供一種即使在拍攝的檢查對象的圖像偏離于檢查區域的情況下也能夠縮短檢查對象的對位所需的檢索時間、從而能夠抑制檢查時間的增加的對位裝置及對位方法。

為了解決上述問題并達到目的，本發明提供一種對位裝置，其用于進行用來檢查測量的基板的對位，其特征在于，上述對位裝置包括：攝像部，其用于拍攝上述基板的圖像；存儲部，其用于存儲利用上述攝像部拍攝的高倍制程程序圖像、以及利用上述攝像部拍攝的低倍制程程序圖像，該高倍制程程序圖像被設定了用于進行上述檢查測量的測量部位，該低倍制程程序圖像包含上述高倍制程程序圖像的視場區域，并具有范圍比該高倍制程程序圖像大的視場區域；檢索部，其用于檢索倍率與上述存儲部所存儲的上述高倍制程程序圖像相等的、利用上述攝像部拍攝的用于進行上述檢查測量的檢查圖像在上述低倍制程程序圖像內的位置；計算部，在上述檢索部的檢索的結果為上述測量部位偏離于上述檢查圖像的視場區域內的情況下，該計算部用于計算出包含該檢查圖像及上述測量部位的位置在內的位置信息；以及控制部，其根據上述計算部所計算出的上述位置信息，移動了上述攝像部以使上述測量部位進入上述檢查圖像的視場區域內，之后使上述攝像部拍攝檢查圖像。