[發明專利]一種低濃度含氰廢水的處理方法及系統

有效

• 申請號: 201110351289.8
• 申請日: 2011-11-09
• 公開（公告）號: CN102502994A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 李國文;郭春生;于勇勇;周加旺
• 申請（專利權）人: 北京緯綸華業環?？萍脊煞萦邢薰?/a>
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F101/18
• 代理公司: 北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015
• 代理人: 齊永紅

1.一種低濃度含氰廢水的處理方法，包括如下步驟：

(1)對低濃度含氰廢水進行預處理，去除低濃度含氰廢水中的大顆粒固體污染物；

(2)將上述預處理后的低濃度含氰廢水進行膜處理，產生濃縮液和透過清水；

(3)將濃縮液進行催化濕式氧化處理，排放或回收利用；

(4)將所述透過清水用NaClO氧化方法處理，排放或回收利用。

2.根據權利要求1所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述步驟(1)中的預處理通過格柵過濾，然后進入調節池，攪拌同時調pH為7.5～8.5。

3.根據權利要求1所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述步驟(2)中的膜處理依次包括前處理系統、第一級反滲透膜處理系統和第二級反滲透膜處理系統，前處理系統包括砂濾和濾芯過濾，砂濾采用石英砂進行過濾，濾芯過濾中的濾芯孔徑為2～5μm，過濾后的廢水通過兩級反滲透膜處理系統過濾。

4.根據權利要求3所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述第一級反滲透膜和第二級反滲透膜選用高抗污染膜。

5.根據權利要求1所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述步驟(3)中的催化濕式氧化處理是：濃縮液經升壓泵升壓到3.8～4.0Mpa，與同壓的氧化氣體充分混合，氣液原料溫度提升至220～240℃后，進入反應塔內，在催化劑的作用下污染物質被徹底氧化分解為CO₂、H₂O，反應時間為1.4～1.6h，反應出水經過與進入系統的濃縮液進行熱交換后冷卻，溫度降至30～50℃，再進行氣液分離處理。

6.根據權利要求5所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述氧化氣體為空氣或純氧氣。

7.根據權利要求5所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：所述催化劑為二氧化鈦為載體釕基活性催化劑。

8.根據權利要求5所述的低濃度含氰廢水的處理方法，其特征是：在催化濕式氧化處理中，與氣液原料相接觸部分的設備的材質采用鈦材。

9.一種低濃度含氰廢水的處理系統，包括：

預處理設備，包括格柵和調節池；

膜處理系統，其包括前處理系統、第一級反滲透膜處理系統和第二級反滲透膜處理系統，前處理系統包括砂濾和濾芯過濾，砂濾采用石英砂，濾芯過濾的濾芯孔徑為2～5μm，通過第一、第二級反滲透膜處理系統的液體為透過清水，沒有通過第一、第二級反滲透膜處理系統的液體為濃縮液；

用于處理濃縮液的催化濕式氧化處理系統，所述濃縮液在催化濕式氧化處理設備中被分解成氣相物質和水。