[發(fā)明專利]聚合物基質電致發(fā)光材料及裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110350512.7 | 申請日: | 2001-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN102516720A | 公開(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | M·L·瑪羅柯三世;F·J·莫塔麥迪 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | C08L65/00 | 分類號: | C08L65/00;C08K3/24;C09K11/06;H01L51/54 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 張欽 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚合物 基質 電致發(fā)光 材料 裝置 | ||
1.一種組合物,其包括聚合物及一種或多種發(fā)光金屬離子或發(fā)光金屬離子配合物,所述聚合物包含選自下述的重復單元:
其中R獨立地選自H、D、F、烷氧基、芳氧基、烷基、芳基、烷基酮、芳基酮、烷基酯、芳基酯、酰胺、羧酸、氟烷基、氟芳基、聚亞烷氧基,任何二個R基可橋接,A及B獨立地選自-O-、-S-、-NR1-,及-CR1R2-、-CR1R2CR3R4-、-N=CR1-、-CR1=CR2-、-N=N-,及-(CO)-,其中R1-R4是H、D、F、烷基、芳基、亞烷氧基、聚亞烷氧基、烷氧基、芳氧基、氟烷基及氟芳基,R1-R4基團中的二個可橋接,m是0-2,n是0-3,o是0-4,p是0-5,q是0-6,且E選自O、NH及S;和
所述所述發(fā)光金屬離子或發(fā)光金屬離子配合物包括具有至少一個雙鍵的可極化的配位體。
2.權利要求1的組合物,其中所述發(fā)光金屬離子或發(fā)光金屬離子配合物包括:包括鈰、銪或鋱的鑭系金屬離子,和選自鉻、錳、鐵、鈷、鉬、釕、銠、鈀、銀、鎢、錸、鋨、銥、鉑、金及鈾的金屬離子。
3.權利要求1或2的組合物,其中所述聚合物是嵌段共聚物、無規(guī)共聚物或接枝共聚物。
4.權利要求1的組合物,其中所述聚合物包含結構I?I的重復單元。
5.權利要求1的組合物,其具有20nm或更少、優(yōu)選10nm或更少、更優(yōu)選5nm或更少和進一步優(yōu)選3nm或更少的發(fā)射光譜帶。
6.權利要求1的組合物,其中所述可極化的配位體選自:
其中,R獨立地選自H、D、F、烷氧基、芳氧基、烷基、芳基、烷基酮、芳基酮、烷基酯、芳基酯、酰胺、羧酸、氟烷基、氟芳基、聚亞烷氧基,二個R基可橋接,m是0-2,n是0-3,o是0-4,p是0-5,q是0-6,r是0-7,且s是0-8。
7.一種電致發(fā)光裝置,包含權利要求1的組合物。
8.權利要求7的電致發(fā)光裝置,其中所述聚合物是交聯(lián)聚合物。
9.權利要求7的電致發(fā)光裝置,包括:
第一電極;
一或多種電荷傳輸材料;及
包含權利要求1的組合物的電致發(fā)光層和第二電極。
10.一種電致發(fā)光組合物,包含:
芳族烴基質,其僅僅包含碳原子和氫原子和含有僅僅芳環(huán);及
具有芳族配位體的鑭系金屬配合物。
11.權利要求10的組合物,其中所述芳族配位體具有二芳基和/或三芳基和/或多芳基。
12.一種電致發(fā)光裝置,包含權利要求10的組合物。
13.權利要求12的電致發(fā)光裝置,包含:
第一電極;
一或多種的電荷傳輸層;及
包含權利要求10的組合物的電致發(fā)光層及第二電極。
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