[發明專利]在低壓力下進行等離子體感應涂覆的方法和設備

有效

• 申請號: 201110349945.0
• 申請日: 2011-11-08
• 公開（公告）號: CN102477535A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: M·奧爾加德
• 申請（專利權）人: 奧迪康有限公司
• 主分類號: C23C14/12
• 分類號: C23C14/12;C23C14/32
• 代理公司: 北京金闕華進專利事務所(普通合伙) 11224
• 代理人: 陳建春

1.在低壓力下等離子體涂覆憎水和憎油聚合層的方法，所述方法包括步驟：

-提供具有表面的襯底；

-將包括1H，1H，2H，2H-全氟癸基丙烯酸酯的化合物蒸發到惰性氣體流內；

-在蒸發到所述氣體流內期間保持所述化合物恒溫；

-將所述表面暴露給氣體和化合物的混合物；

-將所述表面暴露給氣體和化合物的混合物中產生的連續波等離子體，具有等離子體電路提供的等離子體功率。

2.根據權利要求1的方法，所述方法還包括步驟：

-將所述化合物引入容器內并在容器中形成液-氣界面；

-將惰性氣體流引入容器內并位于所述液-氣界面上方；

-在所述液-氣界面的上方提取氣體和蒸發的化合物的混合物。

3.根據權利要求2的方法，其中所述惰性氣體流在引入到容器中之前加熱到預定溫度。

4.根據權利要求2或3的方法，其中恒定的電壓提供給容器中提供的一個或多個PTC型電阻元件。

5.根據權利要求4的方法，還包括下述步驟：

-在蒸發期間測量PTC元件的耗用電流和/或電阻；

-當耗用電流低于預定閾值和/或PTC元件的電阻高于預定閾值時將預定量的液體化合物引入容器中。

6.根據權利要求5的方法，其中PTC元件具有在110和150攝氏度之間的T_NTT或平衡溫度，T_NTT優選在130攝氏度。

7.用于向表面涂覆由包括液態1H，1H，2H，2H-全氟癸基丙烯酸酯的化合物產生的等離子體感應聚合層的設備，所述設備包括低壓力等離子體室、蒸發器、及用于將其中具有一定量所述化合物的惰性氣體流饋入所述等離子體室的供應系統，所述蒸發器包括其中具有一定量液態化合物從而形成化合物-惰性氣體界面的容器，惰性氣體流通過所述界面上方提供的入口向所述容器提供，惰性氣體經所述界面上方提供的出口從所述容器抽出，其中加熱元件提供在所述界面的下面并與液態化合物接觸。

8.根據權利要求7的設備，其中所述加熱元件包括至少一具有T_NTT溫度的PTC電阻器。

9.根據權利要求8的設備，其中多個PTC電阻器提供在所述容器內部且并聯電連接及自連接到所述容器外面的電源的電導體懸掛。

10.根據權利要求7的設備，其中控制電子器件包括可編程計算機裝置、PLC或適于控制電源的類似裝置、控制單體化合物提供到所述室內的閥、及控制惰性氣體流過所述容器的閥。