[發(fā)明專利]一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110349890.3
• 申請日: 2011-11-08
• 公開（公告）號: CN102445865A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發(fā)明（設計）人: 馬蘭濤
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

1.一種減少光刻機對準偏差的光刻圖形對準標記方法，提供光刻圖形對準標記，光刻圖形對準標記位于對準圖形中部第一保護帶內，對準圖形保護帶位于切割帶內，切割帶兩側分別分布有第二保護帶和分隔帶，光刻圖形對準標記為若干相互平行的矩形條，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條垂直于所述切割帶方向地在所述對準圖形中部第一保護帶內依次進行排布。

2.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述若干相互平行的矩形條為3條。

3.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶為矩形，所述光刻圖形對準標記的長度與所述第一保護帶的寬度相同。

4.根據權利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的長度為240微米。

5.根據權利要求3中任意一項所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第一保護帶的寬度為60微米。

6.根據權利要求1所述的光刻圖形對準標記方法，其特征在于，所述第二保護帶緊鄰所述切割帶。