[發明專利]紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀

無效

• 申請號: 201110346722.9
• 申請日: 2011-11-07
• 公開（公告）號: CN102519920A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 鄧文淵;金春水;靳京城;常艷賀
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01J3/427
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 張偉

1.紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，該光譜儀包括：ArF激光激發模塊、KrF激光激發模塊、樣品室、熒光探測模塊和實驗同步控制模塊；所述ArF激光激發模塊發射并傳輸ArF激光，入射至樣品室；KrF激光激發模塊發射并傳輸KrF激光，入射至樣品室；所述激光激發光學薄膜樣品產生熒光從樣品室出射，入射至熒光探測模塊后會聚，并將熒光信號轉換成電信號，發送至實驗同步控制模塊。

2.如權利要求1所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述實驗同步控制模塊包括：控制電腦(10)和信號延遲發生器(11)；所述控制電腦(10)控制信號延遲發生器(11)向各個模塊發射特定的參數信號。

3.如權利要求1所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述ArF激光激發模塊包括：ArF準分子激光器(20)、第一快門(21)、第一電控可變衰減器(22)、第一準直擴束鏡系統(23)和充N₂氣保護管路(24)；所述ArF準分子激光器(20)發射ArF激光，經第一快門(21)，入射至第一電控可變衰減器(22)，由第一電控可變衰減器(22)調節功率后的激光，入射至第一準直擴束鏡系統(23)，使長寬比2∶1的入射光變成長寬比1∶1的出射光，進入樣品室入射至樣品表面；所述充N2氣保護管路(24)充N₂氣并保護ArF激光激發模塊在激光傳輸過程中不受外界環境污染干擾。

4.如權利要求3所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述充N₂氣保護管路(24)在ArF激光激發模塊和樣品室對應處設有小孔，在ArF準分子激光器(20)入射端和第一準直擴束鏡系統(23)出射端分別安裝一個窗口片。

5.如權利要求1所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述KrF激光激發模塊包括：KrF準分子激光器(30)、第二快門(31)、第二電控可變衰減器(32)和第二準直擴束鏡系統(33)；所述KrF準分子激光器(30)發射KrF激光，經第二快門(31)，入射至第二電控可變衰減器(32)，由第二電控可變衰減器(32)調節功率后的激光，入射至第二準直擴束鏡系統(33)，使長寬比2∶1的入射光變成長寬比1∶1的出?射光，進入樣品室入射至樣品表面。

6.如權利要求1所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述樣品室由樣品夾具(40)、金屬腔體(41)和消光器(42)組成；所述樣品夾具(40)放置于ArF激光和KrF激光交叉夾角的中心線處；所述消光器(42)用來吸收激發光源的反射和透射的光線，所述金屬腔體(41)構成樣品室外圍，在激光入射和出射處開三處孔。

7.如權利要求6所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述樣品夾具(40)能夠繞其底座進行180度的旋轉。

8.如權利要求1所述的紫外與深紫外光學薄膜元件雙波長激光熒光光譜儀，其特征在于，所述熒光探測模塊包括：熒光聚焦系統(50)、熒光單色器(51)和光電探測器(52)；樣品被激發所產生的熒光進入熒光聚焦系統(50)，經會聚后進入熒光單色器(51)，由熒光單色器(51)對入射熒光進行分光，所產生的單色光進入光電探測器(52)，所述光電探測器(52)把光信號轉換成電信號。?