[發明專利]一種掩膜架及光固化方法有效
| 申請號: | 201110340416.4 | 申請日: | 2011-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN102650820A | 公開(公告)日: | 2012-08-29 |
| 發明(設計)人: | 何偉;趙乃維;李乃升 | 申請(專利權)人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 掩膜架 光固化 方法 | ||
技術領域
本發明涉及液晶面板制造領域,尤其涉及一種掩膜架及光固化方法。
背景技術
在當今的TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display,薄膜場效應晶體管液晶顯示器)液晶面板的生產工藝中,需要將陣列基板和彩膜基板通過封框膠粘合到一起,但此時封框膠的貼合并不夠牢固,還必須經過一道重要的工序,即紫外線固化,此工序是將紫外線燈發出的紫外線照射到封框膠上,使封框膠發生光反應而固化。但若是將粘合后形成的液晶面板整個暴露在紫外線下,可能會使得液晶面板中的器件,例如薄膜晶體管,受到紫外線的影響而造成其性能的下降,故通常利用掩膜板以使得紫外線只照射封框膠上。
由于封框膠的光固化工藝通常在切割工藝之前,即需要在切割工藝之前對包含多個子液晶面板的母液晶面板進行封框膠的光固化,故現有技術中使用掩膜架實現對母液晶面板中封框膠的光固化。目前設計出的掩膜架,是將多塊掩膜板吸附到掩膜基板(石英)上,且多塊掩膜板之間的縫隙和多個子液晶面板的封框膠相對應。
利用上述掩膜架進行光固化工藝產生以下問題:
每次更換液晶面板產品型號都需要制作新的掩膜架,該掩膜架中的掩膜板的大小都需要根據新的產品型號而重新制作。由于制作掩膜板的材料很昂貴,且重新制作掩膜架需要的工作時間長、工作量大,另外,產品型號若經常變換也會使得掩膜架因多次重新安裝而更加容易產生劃傷,最終影響產品質量;因此,對于現有技術而言,亟待解決因液晶面板產品型號變化而導致的原掩膜架不匹配的問題。
發明內容
本發明的實施例提供一種掩膜架及光固化方法,以解決因液晶面板產品型號變化而導致原掩膜架不匹配的問題。
為解決上述問題,本發明的實施例采用如下技術方案:
一方面,提供一種掩膜架,包括:至少一個彈性掩膜板和支撐部;其中,所述支撐部包括,掩膜區和透光區;
所述彈性掩膜板的邊緣固定安裝在所述支撐部上,且彈性掩膜板覆蓋所述支撐部的掩膜區;
所述支撐部的掩膜區的大小根據預設尺寸調整。
一方面,提供一種光固化方法,包括:
將上述掩膜架置于紫外線燈和包含至少一個子液晶面板的母液晶面板之間;其中,每一子液晶面板的邊緣涂有封框膠;
按照所述子液晶面板中封框膠的尺寸,調整掩膜架上支撐部的掩膜區大小,以使得掩膜架上的彈性掩膜板覆蓋封框膠之內的區域,且不覆蓋封框膠;
紫外線燈照射出的紫外線透過所述掩膜架上支撐部的透光區照射所述封框膠,使得所述封框膠固化。
本發明實施例提供的一種掩膜架及光固化方法,該掩膜架包括至少一個彈性掩膜板和支撐部;其中,支撐部包括:掩膜區和透光區;彈性掩膜板的邊緣固定安裝在支撐部上,且彈性掩膜板覆蓋該支撐部的掩膜區;支撐部的掩膜區的大小根據預設尺寸調整。這樣一來,可以根據預設尺寸調整支撐部掩膜區的大小,從而調整彈性掩膜板的大小,以使得彈性掩膜板能夠覆蓋液晶面板上不需要進行紫外線照射的區域;由于預設尺寸可以是根據液晶面板產品型號的不同而預先設定的尺寸,故本發明實施例提供的方案可以利用一種型號的掩膜架對不同型號的液晶面板進行掩膜,從而解決了因液晶面板產品型號變化而導致原掩膜架不匹配的問題,進而降低生產成本。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發明實施例提供的掩膜架的俯視圖;
圖2為本發明實施例提供的掩膜架的局部剖視圖;
圖3為本發明實施例提供的光固化方法的流程圖。
附圖標記:
11-彈性掩模板,12-支撐部,13-固定部。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
本發明實施例提供了一種掩膜架,如圖1所示,包括:
至少一個彈性掩膜板11和支撐部12;其中,支撐部12包括,掩膜區和透光區。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京京東方光電科技有限公司,未經北京京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110340416.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:物理楔定位
- 下一篇:從懸浮液分離可磁化的可再用材料顆粒的分離裝置
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





