[發明專利]處理裝置無效
| 申請號: | 201110339978.7 | 申請日: | 2011-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN102530554A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 福田達史;木內智一 | 申請(專利權)人: | 奧林巴斯株式會社 |
| 主分類號: | B65G49/06 | 分類號: | B65G49/06;B65G49/07;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種用于對例如平板顯示器用的玻璃基板、半導體基板、印刷電路板等進行檢查、處理的處理裝置。
背景技術
近年來,在玻璃基板、半導體基板、印刷電路板(以下稱作基板)等的制造中,具有用于對基板進行檢查等處理的處理裝置。處理裝置具有用于對基板進行檢查處理的處理部、以及用于自外部向處理部輸送基板或者自處理部向外部輸送基板的輸送部。
輸送部包括:浮起用板,其在用于輸送基板的輸送面上具有多個空氣孔,并用于通過自該空氣孔吹出空氣而使基板浮起;以及吸盤,其用于吸附基板,并能夠沿輸送方向移動。輸送部通過使吸附了利用浮起用板浮起的基板的吸盤移動,而進行基板的輸送。
但是,若輸送到處理部的基板產生撓曲等,則有可能引起處理裝置的對基板的處理精度降低,因此至少在處理部中需要將基板的表面設置為平坦。該處理裝置調整處理部及輸送部的基板輸送面的平坦度,并且調整處理部和輸送部之間的連結部中的連結高度以使其變得平坦。
作為上述處理裝置,公開有在檢查部上配置與輸送方向垂直方向的浮起用板(橫置浮起構件)且使處理部中的基板的表面平坦度提高的技術(例如參照專利文獻1)。在該處理裝置中,利用吸盤保持利用浮起用板而浮起的基板的下表面,從而進行基板的輸送。
專利文獻
專利文獻1:日本特開2009-256029號公報
但是,專利文獻1所公開的處理裝置具有如下問題:由于精密地限定了用于輸送基板的輸送面的平坦度,因此若在輸送中產生微小的振動等,則吸盤和基板之間的吸附狀態被解除,導致產生吸附失誤。
發明內容
本發明是鑒于上述情況而做成的,其目的在于提供一種能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤的處理裝置。
為了解決上述問題并達到目的,本發明的處理裝置包括:處理部,其用于對作為處理對象的基板實施規定的處理;以及輸送臺,其用于載置上述基板而輸送該基板;其特征在于,上述輸送臺包括:支承部件,其具有在沿輸送上述基板的輸送方向觀看時端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面,并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的上述基板;保持構件,其用于以能夠沿與上述輸送方向平行地延伸的輸送軸移動的方式保持上述基板;以及驅動部,其用于使上述保持構件沿上述輸送軸移動;上述支承部件支承上述基板的支承高度在設置有上述處理部的處理部設置區域中與上述保持構件保持上述基板的保持高度相同,上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述處理部設置區域以外的區域中低于上述保持高度。
關于本發明的處理裝置,通過傾斜地設置輸送臺,并水平地配置用于使吸盤移動的輸送軸,使輸送臺所形成的輸送面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差,使基板對吸盤施加較大的自重,因此能夠起到防止基板和吸盤之間的吸附失誤的效果。
附圖說明
圖1是示意性地表示本發明的實施方式1的平板顯示器(FPD)檢查裝置的結構的俯視圖。
圖2是示意性地表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的結構的側視圖。
圖3是示意性地表示圖2所示的輸送臺的示意圖。
圖4是表示圖1所示的FPD檢查裝置的A-A剖面的剖視圖。
圖5是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例1的剖視圖。
圖6是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例2的剖視圖。
圖7是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例3的剖視圖。
圖8是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。
圖9是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。
圖10是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的主要部分的結構的剖視圖。
圖11是表示本發明的實施方式1的FPD檢查裝置的變形例5的剖視圖。
圖12是示意性地表示本發明的實施方式2的FPD檢查裝置的結構的俯視圖。
圖13是表示圖12所示的FPD檢查裝置的B-B剖面的剖視圖。
圖14是表示本發明的實施方式2的FPD檢查裝置的變形例的剖視圖。
具體實施方式
以下,結合附圖詳細地說明用于實施本發明的實施方式。另外,本發明不限于以下的實施方式。此外,在以下的說明中,所參照的各圖只是以能夠理解本發明的內容的程度概略地表示出形狀、大小、以及位置關系。即,本發明不限于在各圖中例示的形狀、大小、以及位置關系。
(實施方式1)
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