[發明專利]一種光子晶體結構發光二極管有效
| 申請號: | 201110338574.6 | 申請日: | 2011-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN102361053A | 公開(公告)日: | 2012-02-22 |
| 發明(設計)人: | 張雄;王璨璨;陳洪鈞;張沛元;崔一平 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L33/04 | 分類號: | H01L33/04;H01L33/06;H01L33/12 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光子 晶體結構 發光二極管 | ||
技術領域
本發明涉及一種帶有光子晶體結構的LED(發光二極管),具體地是一種利用光子晶體所特有的光子帶隙效應來提高LED光提取效率的結構,屬于半導體照明工程中提高LED發光效率的技術領域。
背景技術
LED作為固態半導體光源可應用于城市景觀照明、室內照明等領域。隨著第三代半導體材料氮化鎵研究的突破和藍、白光LED的問世,半導體照明技術必將引發了一場照明領域內的產業革命。實際上,目前LED正在逐步替代傳統的白熾燈和熒光燈,成為新一代照明光源。
對于傳統的單面水平結構的氮化鎵基LED,由于半導體材料與空氣界面的全內反射,理論上只有20%左右的光子能夠逃逸出去,因而提高LED的光提取效率成為全球LED研究的前沿和熱點。研究者已經在理論上和實驗上驗證了在氮化鎵基LED的表面或內部引入光子晶體結構能夠有效地提高LED的光提取效率。在利用光子晶體結構提高氮化鎵基LED出光效率的研究中,光子晶體主要制備在p型氮化鎵的表層,而在p型氮化鎵層引入光子晶體會減弱p型氮化鎵層和金屬的歐姆接觸特性,光子晶體的刻蝕工藝也可能導致對器件有源區的損傷。
目前大部分氮化鎵基LED外延材料主要是在藍寶石襯底上生長,但由于藍寶石的導電性能差,常溫下的電阻率大于1011Ω·cm,普通的氮化鎵基LED器件一般采用單面水平結構,即在不同的外延層表面分別制作n型和p型電極。電流在n型氮化鎵層中橫向流動不等的距離,存在電流堵塞現象,導致額外熱量產生,而藍寶石較差的導熱性能使得大功率LED器件的應用受到限制。另外在外延層表面制作兩個電極,會導致有效發光面積減少,同時還增加了LED器件制造中的光刻和刻蝕工藝過程步驟,使得材料利用率和發光效率降低、成本增加。
發明內容
技術問題:本發明的目的是為了解決現有單面水平結構氮化鎵基LED采用同側電極所帶來的電流分布不均、發熱量高及光提取效率低下等問題。本發明提供一種增加光提取效率的光子晶體結構發光二極管。該結構中硅作為氮化鎵異質外延生長的襯底,電極采取垂直接觸(Vertical-?Contact)方式,即p型和n型接觸分別在制備于p型氮化鎵與n型硅襯底背面,實現電流縱向分布。光子晶體制作在多層緩沖層上,利用光子晶體的光子帶隙效應,實現具有高光提取效率的功率型氮化鎵基藍光及白光LED。
技術方案:一種光子晶體結構發光二極管,其包括:作為生長發光二極管襯底的n型硅襯底,在n型硅襯底上設有AlN成核層,在AlN成核層上生長有AlN/AlGaN多層緩沖層,在此多層緩沖層表面制備有光子晶體結構,在此光子晶體結構上生長n型GaN外延層,在n型GaN外延層上生長有InGaN多量子阱有源發光層;
AlN成核層和AlN/AlGaN多層緩沖層來作為n型硅襯底和n型GaN外延層之間的緩沖介質;
在AlN/AlGaN多層緩沖層內刻蝕形成光子晶體微結構;p型電極和n型電極分別制作在p型GaN外延層表面和n型硅襯底背面。
優選的,所述AlN成核層生長厚度為25-200nm。
優選的,所述AlN/AlGaN多層緩沖層厚度為100-200nm。
優選的,所述該光子晶體結構的晶格周期范圍為200-600nm,刻蝕深度為100nm-200nm。
優選的,所述光子晶體結構發光二極管為垂直結構,電流垂直流過光子晶體結構發光二極管的n型GaN外延層。
優選的,光子晶體結構深入到AlN成核層內。
有益效果:通過本發明的在多層緩沖層內刻蝕形成的周期性光子晶體微結構,能將沿不同方向傳播的光子能量耦合至垂直于LED表面的方向,大幅度地提高LED的光提取效率。
附圖說明
圖1是光子晶體LED層狀結構示意圖;
圖2是光子晶體LED立體示意圖。
其中,n型硅襯底1,AlN成核層2,?AlN/AlGaN多層緩沖層3,光子晶體結構4,n型GaN外延層5,多重量子阱有源發光層6。
具體實施方式
下面將參照附圖對本發明進行說明。
參見圖1-2,光子晶體結構發光二極管,其包括:作為生長發光二極管襯底的n型硅襯底1,在n型硅襯底1上設有AlN成核層2,在AlN成核層2上生長有AlN/AlGaN多層緩沖層3,在此多層緩沖層3表面制備有光子晶體結構4,在此光子晶體結構4上生長n型GaN外延層5,在n型GaN外延層5上生長有InGaN多量子阱有源發光層6;
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