[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110337930.2
• 申請(qǐng)日: 2011-10-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103091905A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 莫再隆;石天雷;樸承翊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1339
• 分類號(hào): G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333;G02B5/20
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國(guó)勝;王瑩

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及薄膜晶體管液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種彩膜基板及其制作方法。

背景技術(shù)

TFT-LCD(Thin?Film?Transistor?Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器)是目前平面顯示器的主流，其具有功耗低、成本相對(duì)較低以及基本無(wú)輻射等優(yōu)點(diǎn)。TFT-LCD面板由彩膜基板和陣列基板對(duì)盒而成，并且通過(guò)隔墊物來(lái)維持液晶盒的厚度。

如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)彩膜基板結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。該彩膜基板包括玻璃基板10、黑矩陣11、像素層、光刻隔墊物15和保護(hù)層16。現(xiàn)有的彩膜基板中的光刻隔墊物15的制作方法通常采用在玻璃基板10上首先形成黑矩陣11，然后在形成黑矩陣11的玻璃基板10上依次形成紅色像素層12、綠色像素層13、藍(lán)色像素層14和保護(hù)層16，待完成上述工藝步驟之后，需要額外增加一道掩模版重新進(jìn)行清洗、涂膠、固化、光刻、顯影等一系列工藝流程才形成光刻隔墊物15，并且該額外形成的光刻隔墊物只有一層，其層數(shù)和彈性參數(shù)比較固定。由于現(xiàn)有技術(shù)中的隔墊物需要額外使用一道掩模版對(duì)其進(jìn)行相應(yīng)的工藝流程才能形成，導(dǎo)致隔墊物的制作流程方法比較復(fù)雜，并且增加了液晶顯示器的生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種彩膜基板及其制作方法，以克服需要額外增加一道掩模版單獨(dú)進(jìn)行工藝制作而帶來(lái)的制作工藝復(fù)雜、制作成本高的問(wèn)題。

(二)技術(shù)方案

為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明一方面提供一種彩膜基板，包括：基板、在所述基板上形成的黑矩陣、位于基板上方的彩色像素層，所述彩色像素層包括第一彩色像素層、第二彩色像素層、第三彩色像素層和隔墊物，其特征在于，所述隔墊物包括兩個(gè)或兩個(gè)以上的隔墊層，每個(gè)隔墊層與一種所述彩色像素層的材料相同。

進(jìn)一步地，所述隔墊物設(shè)置在所述黑矩陣的上方。

進(jìn)一步地，與黑矩陣相接觸的隔墊層與相鄰的彩色像素層相連接。

進(jìn)一步地，所述隔墊物位于黑矩陣的中部。

進(jìn)一步地，所述隔墊物厚度為2.0～4.0μm。

進(jìn)一步地，還包括保護(hù)層，覆蓋于第一彩色像素層、第二彩色像素層、第三彩色像素層和隔墊物上。

進(jìn)一步地，所述保護(hù)層的厚度為2.0-3.0μm。

另一方面，本發(fā)明還提供一種上述彩膜基板的制作方法，包括如下步驟：

步驟S1、在基板上形成黑矩陣圖形；

步驟S2、在完成步驟S1的基板上形成第一彩色像素層、第二彩色像素層、第三彩色像素層和隔墊物的隔墊層，而且隔墊物的各隔墊層是與相應(yīng)顏色的彩色像素層同時(shí)形成。

進(jìn)一步地，在完成步驟S2的基板上涂布保護(hù)層，并對(duì)其進(jìn)行固化。

(三)有益效果

本發(fā)明提供的彩膜基板及其制作方法，所述隔墊物包括兩個(gè)或兩個(gè)以上的隔墊層，每個(gè)隔墊層與一種所述彩色像素層的材料相同，可與彩色像素層同時(shí)形成，因而可最大程度地減少使用掩模版的次數(shù)，具有制作工藝簡(jiǎn)單，制作成本較低等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)彩膜基板結(jié)構(gòu)側(cè)視圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例彩膜基板側(cè)視圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例彩膜基板俯視圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例彩膜基板制作方法的流程圖。

其中：10、玻璃基板；11、黑矩陣；12、紅色像素層；13、綠色像素層；14、藍(lán)色像素層；15、光刻隔墊物；16、保護(hù)層；17、紅色像素隔墊層；18、綠色像素隔墊層；19、藍(lán)色像素隔墊層。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。

如圖2-3所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板，包括：玻璃基板10、在玻璃基板10上形成的黑矩陣11和位于基板上方的彩色像素層，該彩色像素層包括紅色像素層12、綠色像素層13和藍(lán)色像素層14，還包括，保護(hù)層16和隔墊物，該保護(hù)層位于彩膜基板的頂層；隔墊物位于黑矩陣11和保護(hù)層16之間。其中，隔墊物包括兩個(gè)或兩個(gè)以上的隔墊層，每個(gè)隔墊層與一種所述彩色像素層的材料相同。