[發(fā)明專利]一種三維芯片及其組合結(jié)構(gòu)和制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110336147.4 | 申請日: | 2011-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN103094227A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉靜 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | H01L23/44 | 分類號: | H01L23/44;H01L23/31;H01L21/50 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 三維 芯片 及其 組合 結(jié)構(gòu) 制造 方法 | ||
1.一種三維芯片,其特征在于,包括:基底、內(nèi)圍欄、元件和液態(tài)金屬;所述元件設(shè)置在所述基底與內(nèi)圍欄所構(gòu)成的封閉的內(nèi)腔體中且固定在所述基底上;所述液態(tài)金屬填充于所述內(nèi)腔體中。
2.如權(quán)利要求1所述的三維芯片,其特征在于,所述元件的表面設(shè)置有絕緣層。
3.如權(quán)利要求1所述的三維芯片,其特征在于,所述三維芯片包括至少一個(gè)所述元件。
4.如權(quán)利要求1所述的三維芯片,其特征在于,所述圍欄高于所述元件。
5.如權(quán)利要求1所述的三維芯片,其特征在于,所述液態(tài)金屬為鎵、鈉、鉀或者水銀。
6.如權(quán)利要求5所述的三維芯片,其特征在于,所述液態(tài)金屬中混有0~99wt%的鎵銦錫合金或者鈉鉀合金,或者混有直徑介于10nm至900nm的導(dǎo)熱顆粒或者磁性顆粒。
7.如權(quán)利要求1所述的三維芯片,其特征在于,所述基底或者圍欄的材料為銅、陽極氧化鋁、金剛石、不銹鋼、石墨、硅、有機(jī)玻璃或者聚合物材質(zhì)。
8.一種三維芯片的組合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述組合結(jié)構(gòu)包括:外圍欄、基底、元件和液態(tài)金屬;所述外圍欄圍成封閉的外腔體;所述基底分層設(shè)置在所述外腔體中;所述元件設(shè)置在所述外腔體中,并且設(shè)置在所述基底上;所述液態(tài)金屬填充于所述外腔體中。
9.如權(quán)利要求8所述的組合結(jié)構(gòu),其特征在于,所述組合結(jié)構(gòu)還包括內(nèi)圍欄;所述內(nèi)圍欄設(shè)置在所述外腔體中,并且與所述基底連接構(gòu)成內(nèi)腔體,所述元件位于所述內(nèi)腔體中;所述液態(tài)金屬填充于所述內(nèi)腔體中。
10.一種三維芯片的制造方法,其特征在于,包括步驟:
A:將元件設(shè)置在基底上,并且在所述元件表面設(shè)置絕緣層;
B:將內(nèi)圍欄固定在所述基底上,所述元件位于所述基底和內(nèi)圍欄所構(gòu)成的內(nèi)腔體中;
C:從所述內(nèi)圍欄的注液孔中注入液態(tài)金屬,所述內(nèi)腔體中空氣從所述內(nèi)圍欄的排氣孔中排出;
D:待液態(tài)金屬充滿所述內(nèi)腔體后,封閉所述內(nèi)圍欄的注液孔和排氣孔。
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