[發(fā)明專利]一種仿壁虎毛的干性粘合劑制作方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110335136.4 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102381679A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉世元;張鵬;張傳維 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B81C1/00 | 分類號(hào): | B81C1/00 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 壁虎 干性 粘合劑 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于微納米仿生結(jié)構(gòu)的制作方法,具體涉及高深寬比微納層次結(jié)構(gòu)的制作方法,可用于制作一種仿壁虎毛的高深寬比微納層次結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)本身即為一種適應(yīng)不同表面又能輕易脫附的強(qiáng)效干性粘合劑。
背景技術(shù)
近些年來,在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)領(lǐng)域,各種商品化的MEMS器件出現(xiàn)并成功應(yīng)用在航天航空、生物醫(yī)學(xué)、能源交通、科學(xué)儀器等領(lǐng)域。由于MEMS器件特有的微小尺寸,其安裝和固定一般采用粘合劑方式。目前廣泛應(yīng)用的粘合劑幾乎都是濕性粘合劑(如粘合膠帶、膠水),它們因一些固有特性,導(dǎo)致其存在易于退化、易受污染、自粘附以及撕開后難以再次使用等缺點(diǎn)。因此,探索某種干性粘合劑,使之能夠牢固地粘附并能輕易脫附與各種類型的物體表面,同時(shí)具有良好的可重復(fù)性,具有非常重要的意義。
自然界中的壁虎可以在垂直墻面甚至天花板上自由爬行,他們和未知粗糙表面接觸時(shí),能產(chǎn)生牢固的粘附并輕易的脫附。壁虎毛的分級(jí)層次結(jié)構(gòu),特別是其微米級(jí)剛毛/納米級(jí)絨毛的微納層次結(jié)構(gòu),是保證壁虎毛既產(chǎn)生巨大粘附力又能適應(yīng)不同表面形貌并可輕易主動(dòng)脫附的關(guān)鍵,也為干性粘合劑的仿生設(shè)計(jì)與制作提供了極好的范例和啟示,本發(fā)明中的干性粘合劑即為仿壁虎毛的高深寬比微納層次結(jié)構(gòu)。這種干性粘合劑在MEMS器件的安裝和固定、爬壁機(jī)器人等領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。
本申請(qǐng)人于2010年5月14日提出了“一種干性粘合劑的制作方法”(中國專利授權(quán)號(hào),20101171719.3),該發(fā)明方法先使用電感耦合等離子體(ICP)刻蝕工藝制作出微米級(jí)硅母板,再將聚二甲基硅氧烷(PDMS)涂在微米級(jí)硅母板上并剝離得到微米級(jí)模具,并以該模具復(fù)制得到以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為材料的微米級(jí)纖維陣列;另一方面,采用基于膠體的晶體刻蝕技術(shù)得到納米級(jí)硅母板,再將聚胺脂丙稀酯酸(PUA)涂在納米級(jí)硅母板上并曝光得到納米級(jí)模具,最后將納米級(jí)模具倒置于微米級(jí)纖維陣列上加壓再緩速拉模,得到高深寬比的納米級(jí)纖維陣列。
在上述專利文獻(xiàn)中提到的制作方法,是通過先后兩次成型,先制作出微米級(jí)的纖維陣列,再在微米級(jí)的纖維陣列頂端制作出納米級(jí)的絨毛陣列,得到高深寬比的微納層次結(jié)構(gòu)。該方法需要分別制作微米級(jí)和納米級(jí)的硅母板與模具,期間需要使用ICP刻蝕工藝與基于膠體的晶體刻蝕技術(shù),而且要采用拉模的方式才能得到納米級(jí)的纖維陣列,整個(gè)流程較為復(fù)雜繁瑣,對(duì)制作環(huán)境、儀器設(shè)備以及操作技術(shù)也提出較高要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種仿壁虎毛的干性粘合劑的制作方法,克服了目前濕性粘合劑易退化、易污染、自粘附、以及撕開后難以再次使用等缺點(diǎn),并改進(jìn)了以往干性粘合劑復(fù)雜繁瑣的問題。
本發(fā)明提供的一種仿壁虎毛的干性粘合劑制作方法,其步驟包括:
第1步基于電感耦合等離子體刻蝕工藝的硅母板制作步驟:
依據(jù)納米級(jí)纖維陣列的中纖維的直徑、間距制作出點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)掩膜板,然后使用電感耦合等離子體(ICP)刻蝕工藝刻蝕硅母板,刻蝕深度為所設(shè)定納米級(jí)纖維的長度,得到帶深孔陣列的硅母板;
第2步基于厚膠工藝的復(fù)合模具制作步驟:
在帶深孔陣列的硅母板旋涂SU-8光刻膠,SU-8膠厚度為所設(shè)定的微米級(jí)纖維的長度,烘烤;SU-8光刻膠冷卻后將整個(gè)硅母板放至光刻機(jī)上曝光,曝光所用的掩膜板圖案由所設(shè)定的微米級(jí)纖維的直徑、間距對(duì)應(yīng)制作;曝光完成后將整個(gè)硅母板烘烤,待冷卻后放入顯影液中浸泡,則未曝光的SU-8膠被去掉,得到SU-8膠與硅的復(fù)合模具;
第3步基于微模塑成型的雙層纖維陣列制作步驟:
清洗SU-8膠與硅的復(fù)合模具,然后鍍上分離劑六甲基二硅胺烷(HDMS),再將纖維材料聚二甲基硅氧烷(PDMS)倒在復(fù)合模具上,烘烤后從復(fù)合模具上剝離,得到仿壁虎毛的微納層次結(jié)構(gòu)纖維陣列,即干性粘合劑。
本發(fā)明的干性粘合劑為仿壁虎毛的高深寬比微納層次結(jié)構(gòu),通過ICP刻蝕與厚膠工藝相結(jié)合制作出一種SU-8膠與硅的復(fù)合模具,然后通過微模塑的方式一次成型得到仿壁虎毛的微納層次結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)本身即為一種能適應(yīng)不同表面形貌并能輕易脫附的全范德華力干性粘合劑,單次制作出的陣列面積可達(dá)10×10cm甚至更大。具體而言,本發(fā)明具有以下技術(shù)特點(diǎn):
(1).制作干性粘合劑的模具是雙層的SU-8膠與硅復(fù)合模具,通過該模具可一次成型制作出大面積的仿壁虎毛的干性粘合劑,且能反復(fù)使用;
(2).制作工藝主要包括ICP刻蝕與厚膠工藝,模具材料主要為硅母板、SU-8光刻膠,干性粘合劑材料為PDMS,成本低廉,制作簡易。
附圖說明
圖1是干性粘合劑結(jié)構(gòu)示意圖;
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