[發明專利]用于進行等離子體化學氣相沉積的爐子有效
| 申請號: | 201110333670.1 | 申請日: | 2004-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN102383108A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發明(設計)人: | M·J·N·斯特拉倫范;R·H·M·德克斯 | 申請(專利權)人: | 德拉卡纖維技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C03C17/22 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 傅永霄 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 進行 等離子體 化學 沉積 爐子 | ||
1.一種用于進行等離子體化學氣相沉積的爐子,其特征在于:該爐子具有金屬殼以防止高頻能量向環境泄漏。
2.根據權利要求1的爐子,其特征在于:該爐子中具有狹縫,波導管移動經過所述狹縫,所述狹縫用所述金屬殼覆蓋。
3.根據權利要求1或2的爐子,其特征在于:玻璃基管延伸經過該爐子的位置用金屬管環繞。
4.根據權利要求1至3中任意一項的爐子,其特征在于:所述爐子的內部具有一層吸收微波輻射的層。
5.一種用于進行等離子體化學氣相沉積的方法,其特征在于:在所述等離子體化學氣相沉積過程中,使用爐子使玻璃基體維持在800-1300℃的溫度,其中通過波導管向涂覆器傳送高頻能量,由于在所述爐子中存在狹縫,該波導管在所述的爐子內能來回移動,其中所述狹縫由板覆蓋,所述板具有金屬殼以防止高頻能量通過所述爐子中的所述狹縫泄漏。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





