[發(fā)明專利]對RF設(shè)備進(jìn)行鍍金屬的方法以及用于該方法的濺鍍裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110332603.8
• 申請日: 2011-10-27
• 公開（公告）號: CN102453874A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭銘峻;金明浩;鄭賢泳;吳世英
• 申請（專利權(quán)）人: ACE技術(shù)株式會(huì)社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/14
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種用于對RF設(shè)備進(jìn)行鍍金屬的濺鍍裝置，包括：

放置所述RF設(shè)備的被鍍金屬體的支撐部；

由用于對所述被鍍金屬體進(jìn)行鍍金屬的材料形成的第一靶子；以及

與所述第一靶子分開排列的第二靶子，

其中，對所述被鍍金屬體進(jìn)行鍍金屬時(shí)，分別向所述第一靶子和所述第二靶子供給電力。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述第一靶子和所述第二靶子呈八子形地設(shè)置在所述RF設(shè)備的上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述RF設(shè)備為腔體濾波器，從所述靶子分離的鍍金屬物質(zhì)沉積在腔體內(nèi)的底面和側(cè)面，

其中，所述底面以及所述側(cè)面的最大厚度偏差為3倍以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述靶子由同一物質(zhì)形成，并且所述靶子由銀或者銅形成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，在鍍金屬工序期間供給至所述被鍍金屬體的偏置電壓發(fā)生變化。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述第一靶子和所述第二靶子中的至少一個(gè)為圓柱形或者五角以上的多角形。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其中，所述支撐部具有與所述被鍍金屬體的側(cè)面相對應(yīng)的彎曲部，

其中，所述彎曲部形成有至少一個(gè)電極，通過所述電極向所述被鍍金屬體供給預(yù)定電源。

8.一種用于對RF設(shè)備進(jìn)行鍍金屬的濺鍍裝置，包括：

所述RF設(shè)備的被鍍金屬體放置的支撐部；以及

面向所述支撐部，并且由用于對所述被鍍金屬體進(jìn)行鍍金屬的材料形成的靶子，

其中，在鍍金屬工序期間所述靶子和所述被鍍金屬體中的至少一個(gè)上下?lián)u擺。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其中，所述RF設(shè)備為腔體濾波器，從所述靶子分離的鍍金屬物質(zhì)沉積在腔體內(nèi)的底面以及側(cè)面，

其中，所述底面以及所述側(cè)面的最大厚度偏差為3倍以下，并且所述靶子由銀或者銅形成。

10.根根權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其中，在鍍金屬工序期間供給至所述被鍍金屬體的偏置電壓發(fā)生變化。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其中，所述靶子為圓柱形或者五角以上的多角形。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其中，所述支撐部具有與所述被鍍金屬體側(cè)面相對應(yīng)的彎曲部，

其中，所述彎曲部形成有至少一個(gè)電極，通過所述電極向所述被鍍金屬體供給預(yù)定電源。

13.一種利用具有支撐部和靶子的濺鍍裝置對RF設(shè)備進(jìn)行鍍金屬的方法，包括：

通過所述支撐部向用于所述RF設(shè)備的被鍍金屬體供給第一電壓且向所述靶子供給預(yù)定電力；以及

向所述被鍍金屬體供給所述第一電壓并經(jīng)過預(yù)定時(shí)間后，向所述被鍍金屬體供給第二電壓。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述第二電壓比所述第一電壓低，在整個(gè)工序時(shí)間中一半時(shí)間向所述被鍍金屬體供給所述第一電壓，剩余一半時(shí)間向所述被鍍金屬體供給所述第二電壓。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述RF設(shè)備為腔體濾波器，從所述靶子分離的鍍金屬物質(zhì)沉積在所述腔體內(nèi)的底面和側(cè)面，

其中，所述底面以及所述側(cè)面的最大厚度偏差為3倍以下，所述靶子由銀或者銅形成，并且所述靶子為圓柱形或者五角以上的多角形。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，采用多個(gè)靶子，并且向所述多個(gè)靶子供給相同的電力。

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述靶子或者所述被鍍金屬體上下?lián)u擺，所述支撐部具有與所述被鍍金屬體的側(cè)面相對應(yīng)的彎曲部，

其中，所述彎曲部形成有至少一個(gè)電極，通過所述電極向所述被鍍金屬體供給預(yù)定電源。