[發明專利]殼體及其制備方法

無效

• 申請號: 201110331584.7
• 申請日: 2011-10-27
• 公開（公告）號: CN103096649A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 朱永剛
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;H05K5/04;C04B35/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種殼體，其包括基材，其特征在于：該殼體還包括形成于基材表面的基底陶瓷層、形成于基底陶瓷層表面的透明陶瓷層；基底陶瓷層與透明陶瓷層之間還設置有圖案層，且該圖案層嵌入于基底陶瓷層中，該圖案層由陶瓷組成。

2.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該基材的材質為不銹鋼或鈦合金。

3.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該基底陶瓷層由氧化物陶瓷組成，該基底陶瓷層包括質量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5-6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣；其中，該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。

4.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該圖案層由氧化物陶瓷組成，該圖案層包括質量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的色素原料、5-6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣；其中，該色素原料為氧化鈦、三氧化鐵、四氧化三鐵或氧化鈷中的一種。

5.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該透明陶瓷層由氧化物陶瓷組成，該透明陶瓷層包括質量百分含量分別為75-85%的氧化硅、5-12%的氧化鋁、5-8%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的三氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣。

6.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該基底陶瓷層的厚度為0.15-0.18mm。

7.如權利要求1所述的殼體，其特征在于：該透明陶瓷層的厚度為0.08-0.1mm。

8.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟：

提供基材；

采用靜電噴涂及高溫燒結工藝在基材的表面形成基底陶瓷層；

將陶瓷花紙的花膜貼在基底陶瓷層的表面并進行高溫燒結處理，使基底陶瓷層表面形成圖案層；

采用靜電噴涂及高溫燒結工藝在所述基底陶瓷層及圖案層的表面形成透明陶瓷層。

9.如權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述形成基底陶瓷層的步驟中靜電噴涂采用的噴涂原料中含有質量百分含量分別為60-70%的氧化硅、15-20%的氧化鋁、5-10%的氧化鈦、5-6%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣；高溫燒結為在800-805℃的溫度下保溫3-5min。

10.如權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述形成圖案層的步驟中燒結工藝的具體參數為：在780-785℃的溫度下保溫3-5min；然后自然降溫冷卻。

11.如權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述形成透明陶瓷層的步驟中靜電噴涂采用的噴涂原料中含有質量百分含量分別為75-85%的氧化硅、5-12%的氧化鋁、5-8%的氧化鉀、4-6%的氧化鈉、0.4-0.6%的氧化鎂、0.2-0.4%的氧化鐵、0.2-0.4%的氧化鈣；高溫燒結為在730-750℃的溫度下保溫5-8min。

12.如權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于：該基材的材質為不銹鋼或鈦合金。

13.如權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于：所述方法還包括在形成基底陶瓷層前對基材進行粗化處理，使基材的表面粗糙度達到1.3-2.0μm。