[發明專利]綠色生態人居抗菌自潔材料無效
| 申請號: | 201110331024.1 | 申請日: | 2011-10-27 |
| 公開(公告)號: | CN102511499A | 公開(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發明(設計)人: | 丁宏廣 | 申請(專利權)人: | 浙江金海環境技術股份有限公司 |
| 主分類號: | A01N59/16 | 分類號: | A01N59/16;A01N25/08;A01P1/00;A01P3/00;B01D39/06;D01F6/46;D01F6/92;D01F1/10 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 郭輝 |
| 地址: | 311817 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 綠色生態 人居 抗菌 材料 | ||
1.一種抗菌自潔材料,所述抗菌自潔材料包含作為載體的多孔納米材料、含鈰離子、銀離子和稀土永磁離子的無機納米抗菌顆粒以及納米級自潔材料;其中,所述無機納米抗菌顆粒的粒徑為10nm~100nm。
2.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述無機納米抗菌顆粒為0.5~10質量%;所述無機納米抗菌顆粒還包含鋅離子、鈦離子、鎳離子、鎂離子和鈣離子中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述納米級自潔材料為1~10質量%。
4.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,所述納米級自潔材料包含Ti+4陽離子和Ge+4陽離子中的一種或兩種。
5.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,所述抗菌自潔材料還包含紅外輻射粉末。
6.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述紅外輻射粉末為15~20質量%。
7.根據權利要求5所述的抗菌自潔材料,其特征在于,所述紅外輻射粉末通過以下方式獲得:將7.8~13質量份的氧化鎂、33~35質量份的氧化鋁、48.7~51質量份的石英砂混合,研磨成200目~300目的粉料,并在1150℃~1300℃高溫煅燒形成。
8.根據權利要求1所述的抗菌自潔材料,其特征在于,所述多孔納米材料為納米三氧化二鐵、納米碳酸鈣、納米二氧化鈦、納米氧化鋅、納米氧化鋯、納米級羥基磷灰石、納米級的含少量氟或氯的天然磷酸鈣礦石中的一種或它們兩種或多種的納米復合物。
9.一種權利要求1-8任一項所述抗菌自潔材料的制造方法,所述方法包括:以多孔納米材料為載體,將含鈰離子、銀離子和稀土永磁離子的無機納米抗菌顆粒以及納米級自潔材料固定在所述多孔納米材料載體的表面上,由此制成所述抗菌自潔材料。
10.根據權利要求9所述的制造方法,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述無機納米抗菌顆粒為0.5~10質量%;所述無機納米抗菌顆粒還包含鋅離子、鈦離子、鎳離子、鎂離子和鈣離子中的一種或多種。
11.根據權利要求9所述的制造方法,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述納米級自潔材料為1~10質量%。
12.根據權利要求9所述的制造方法,其特征在于,所述納米級自潔材料包含Ti+4陽離子和Ge+4陽離子中的一種或多種。
13.根據權利要求9所述的制造方法,其特征在于,所述方法還包括將紅外輻射粉末固定在所述多孔納米材料載體的表面上。
14.根據權利要求13所述的制造方法,其特征在于,以所述抗菌自潔材料的總質量為基準,所述紅外輻射粉末為15~20質量%。
15.根據權利要求13所述的制造方法,其特征在于,所述紅外輻射粉末通過以下方式獲得:將7.8~13質量份的氧化鎂、33~35質量份的氧化鋁、48.7~51質量份的石英砂混合,研磨成200目~300目的粉料,并在1150℃~1300℃高溫煅燒形成。
16.根據權利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述多孔納米材料為納米三氧化二鐵、納米碳酸鈣、納米二氧化鈦、納米氧化鋅、納米氧化鋯、納米級羥基磷灰石、納米級的含少量氟或氯的天然磷酸鈣礦石中的一種或它們兩種或多種的納米復合物。
17.根據權利要求9或13所述的制造方法,其特征在于,所述固定包括通過物理吸附和離子交換方法固定在所述多孔納米材料載體的表面上。
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