[發明專利]一種用于控制裂解爐的反應溫度的控制系統和控制方法有效
| 申請號： | 201110330085.6 | 申請日： | 2011-10-26 |
| 公開（公告）號： | CN103074098A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 孫康;吳小英;李慶;吳瑾;劉瞻 | 申請（專利權）人： | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司北京化工研究院 |
| 主分類號： | C10G9/24 | 分類號： | C10G9/24;G05B13/00 |
| 代理公司： | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人： | 王浩然;王鳳桐 |
| 地址： | 100728 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 控制 裂解爐 反應 溫度 控制系統 方法 | ||
1.一種用于控制裂解爐的反應溫度的控制系統，該控制系統包括溫度采集模塊和二自由度內模控制器，其中：
所述溫度采集模塊用于采集裂解爐的當前溫度并將采集到的當前溫度傳送給所述二自由度內模控制器；
所述二自由度內模控制器用于根據溫度設定值和所述裂解爐的當前溫度來調節所述裂解爐的加熱裝置的加熱功率。
2.根據權利要求1所述的控制系統，其中，所述二自由度內模控制器包括內模控制模塊、裂解爐溫度傳遞函數模塊和濾波器模塊，其中：
所述裂解爐的當前溫度與所述裂解爐溫度傳遞函數模塊的輸出的差值被輸入給所述濾波器模塊，所述濾波器模塊的輸出和所述溫度設定值被輸入給所述內模控制模塊，所述內模控制模塊根據所述濾波器模塊的輸出和所述溫度設定值來調節作為所述裂解爐溫度傳遞函數模塊的輸入的所述加熱功率。
3.根據權利要求2所述的控制系統，其中，所述裂解爐溫度傳遞函數模塊所采用的溫度傳遞函數根據所述加熱功率與相應的裂解爐溫度的對應關系以及采用的加純滯后傳遞函數模型獲得。
4.根據權利要求3所述的控制系統，其中，所采用的加純滯后傳遞函數模型為
5.根據權利要求4所述的控制系統，其中，所述內模控制模塊的傳遞函數為：
6.根據權利要求5所述的控制系統，其中，所述濾波器模塊采用一階或二階低通濾波器。
7.一種用于控制裂解爐的反應溫度的控制方法，該方法包括：
采集裂解爐的當前溫度并將采集到的當前溫度傳送給二自由度內模控制器；
所述二自由度內模控制器根據溫度設定值和所述裂解爐的當前溫度來調節所述裂解爐的加熱裝置的加熱功率。
8.根據權利要求7所述的控制方法，其中，所述二自由度內模控制器包括內模控制模塊、裂解爐溫度傳遞函數模塊和濾波器模塊，并且所述二自由度內模控制器根據溫度設定值和所述裂解爐的當前溫度來調節所述裂解爐的加熱裝置的加熱功率包括：
所述裂解爐的當前溫度與所述裂解爐溫度傳遞函數模塊的輸出的差值被輸入給所述濾波器模塊，所述濾波器模塊的輸出和所述溫度設定值被輸入給所述內模控制模塊，所述內模控制模塊根據所述濾波器模塊的輸出和所述溫度設定值來調節作為所述裂解爐溫度傳遞函數模塊的輸入的所述加熱功率。
9.根據權利要求8所述的控制方法，其中，所述裂解爐溫度傳遞函數模塊所采用的溫度傳遞函數根據所述加熱功率與相應的裂解爐溫度的對應關系以及采用的加純滯后傳遞函數模型獲得。
10.根據權利要求9所述的控制方法，其中，所采用的加純滯后傳遞函數模型為
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