[發明專利]光學元件超光滑表面的拋光裝置

無效

• 申請號: 201110329791.9
• 申請日: 2011-10-26
• 公開（公告）號: CN102328259A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發明（設計）人: 施春燕;徐清蘭;范斌;萬勇建;伍凡;張亮
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 梁愛榮

1.一種對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：所述拋光裝置包括剪切射流拋光盤(1)、數控機床(2)、工件裝夾平臺(4)、浴法射流拋光平臺(5)、拋光頭控制裝置(6)、射流拋光系統(7)和液體管路(8)，其中：剪切射流拋光盤(1)通過拋光頭控制裝置(6)固定在數控機床(2)上，通過液體管路(8)與射流拋光系統(7)連接，浴法射流拋光平臺(5)安裝在數控機床(2)上，通過液體管路(8)與射流拋光系統(7)連接，用于回收和循環拋光液，工件裝夾平臺(4)安裝在浴法射流拋光平臺(5)里，待拋光工件(3)通過工件裝夾平臺(4)固定在數控機床(2)上；通過射流拋光系統(7)的增壓系統對混有磨料粒子的拋光液加速從剪切射流拋光盤(1)射出，在與剪切射流拋光盤下端面緊貼的光學元件表面產生剪切射流，通過射流的剪切作用力，對光學元件的超光滑表面拋光；從設有容器壁的工件裝夾平臺(4)中溢出拋光液并流到浴法射流拋光平臺(5)上；然后經浴法射流拋光平臺(5)底部的出水口通過液體管路(8)回收射流拋光系統中，進行拋光液的循環拋光。

2.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：剪切射流拋光盤(1)下端面設有若干個半圓柱槽，每個槽里端有一個直徑為Φ0.5mm-2mm的噴嘴，拋光液從噴嘴噴出，經半圓柱槽從待拋光工件(3)壁面流出。

3.根據權利要求2所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：在剪切射流拋光盤(1)沒有半圓柱槽的下端面粘貼一層無紡布，無紡布的厚度為0.5mm-1mm；無紡布與待拋光工件(3)緊貼并進行拋光。

4.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：在拋光過程中，待拋光工件(3)和剪切射流拋光盤(1)是浸沒在拋光液中拋光。

5.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：在拋光過程中，待拋光工件(3)在工件裝夾平臺(4)上繞中心軸旋轉，旋轉速度為0-720轉/分鐘。

6.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：拋光過程中，剪切射流拋光盤(1)通過拋光頭控制裝置(6)的控制繞中心軸旋轉，旋轉速度為0-720轉/分鐘，旋轉方向與待拋光工件(3)的旋轉方向相反。

7.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：拋光過程中，拋光液通過射流拋光系統(7)的回收裝置進行循環利用。

8.根據權利要求1所述的對光學元件超光滑表面拋光的裝置，其特征在于：剪切射流拋光盤(1)的口徑大小為待拋光工件口徑大小的1/5至4/5倍。