[發(fā)明專(zhuān)利]太陽(yáng)能電池RIE工藝溫度補(bǔ)償方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110329442.7 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102364700A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-02-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘明 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 常州天合光能有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 常州市維益專(zhuān)利事務(wù)所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
| 地址: | 213031 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽(yáng)能電池 rie 工藝 溫度 補(bǔ)償 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池RIE制絨技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種太陽(yáng)能電池RIE工 藝溫度補(bǔ)償方法。
背景技術(shù)
反應(yīng)性離子蝕刻(Reactive?Ion?Etching)簡(jiǎn)稱(chēng)RIE,是結(jié)合(1)物理性的離 子轟擊與(2)化學(xué)反應(yīng)的蝕刻。此種方式兼具非等向性與高蝕刻選擇比等雙重優(yōu) 點(diǎn),蝕刻的進(jìn)行主要靠化學(xué)反應(yīng)來(lái)達(dá)成,以獲得高選擇比。加入離子轟擊的作 用有二:一是將被蝕刻材質(zhì)表面的原子鍵結(jié)破壞,以加速反應(yīng)速率。二是將再 沉積于被蝕刻表面的產(chǎn)物或聚合物(Polymer)打掉,以使被蝕刻表面能再與蝕刻 氣體接觸。而非等向性蝕刻的達(dá)成,則是靠再沉積的產(chǎn)物或聚合物,沉積在蝕 刻圖形上,在表面的沉積物可為離子打掉,故蝕刻可繼續(xù)進(jìn)行,而在側(cè)壁上的 沉積物,因未受離子轟擊而保留下來(lái),阻隔了蝕刻表面與反應(yīng)氣體的接觸,使 得側(cè)壁不受蝕刻,而獲得非等向性蝕刻。通過(guò)調(diào)整氣體流量及射頻能量可獲得 非常低的反射率,提高短路電流,因而可應(yīng)用于多晶太陽(yáng)能電池的制絨工藝上。
現(xiàn)有RIE工藝在連續(xù)作業(yè)時(shí),因?yàn)榈入x子體的轟擊,基板溫度逐漸升高, 制作出的電池片反射率隨之升高。這將導(dǎo)致最終的電池片電性能受影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種太陽(yáng)能電池RIE工藝溫度補(bǔ)償 方法,引入溫度補(bǔ)償系數(shù)以穩(wěn)定反射率,提高RIE工藝的穩(wěn)定性。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的方案是:一種太陽(yáng)能電池RIE工藝溫度 補(bǔ)償方法,具體步驟如下:
a)每次作業(yè)之前通過(guò)熱電偶或紅外線(xiàn)溫度偵測(cè)儀偵測(cè)基板溫度;
b)此溫度值將反饋至操作系統(tǒng),系統(tǒng)根據(jù)溫度值計(jì)算出實(shí)際工藝時(shí)間,工 藝時(shí)間計(jì)算公式如下:
T=T0+a*ln(T1)+b;
T:補(bǔ)償后的工藝時(shí)間;
T0:設(shè)定工藝時(shí)間;
T1:基板溫度;
a和b:常數(shù),根據(jù)收集的溫度與工藝時(shí)間數(shù)據(jù)計(jì)算出;
c)設(shè)備工作時(shí)將以補(bǔ)償后的工藝時(shí)間為實(shí)際工藝時(shí)間。
進(jìn)一步地,根據(jù)收集的溫度與工藝時(shí)間數(shù)據(jù)計(jì)算出a和b產(chǎn)生的方法(過(guò) 程)為:
假設(shè)基板溫度T1=X1時(shí),根據(jù)實(shí)際的反射率結(jié)果手動(dòng)調(diào)整工藝時(shí)間,當(dāng)反射 率達(dá)到要求時(shí),得到實(shí)際工藝時(shí)間為Y1,將X1和Y1帶入公式得到公式1:
Y1=T0+a*X1+b
按同樣方法可得到當(dāng)基板溫度為X2時(shí)的實(shí)際工藝時(shí)間Y2,帶入公式可得到 公式2:
Y2=T0+a*X2+b
公式1和公式2中只有a和b為未知數(shù),因此可根據(jù)這兩個(gè)公式計(jì)算出a,b 值。
本發(fā)明的有益效果是:通過(guò)此發(fā)明可解決RIE工藝中反射率隨工藝溫度波 動(dòng)的缺陷,通過(guò)引入溫度補(bǔ)償,自動(dòng)調(diào)節(jié)工藝時(shí)間,提高RIE工藝穩(wěn)定性。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明;
圖1是本發(fā)明所使用的設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中,1.氣體管路、2.噴淋頭,3.基板,4.熱電偶或紅外線(xiàn)溫度偵測(cè)儀, 5.控制系統(tǒng),6.流量控制器。
具體實(shí)施方式
一種太陽(yáng)能電池RIE工藝溫度補(bǔ)償方法,具體步驟如下:
a)每次作業(yè)之前通過(guò)熱電偶或紅外線(xiàn)溫度偵測(cè)儀偵測(cè)基板溫度;
b)此溫度值將反饋至操作系統(tǒng),系統(tǒng)根據(jù)溫度值計(jì)算出實(shí)際工藝時(shí)間,工 藝時(shí)間計(jì)算公式如下:
T=T0+a*ln(T1)+b;
T:補(bǔ)償后的工藝時(shí)間;
T0:設(shè)定工藝時(shí)間;
T1:基板溫度;
a和b:常數(shù),根據(jù)收集的溫度與工藝時(shí)間數(shù)據(jù)計(jì)算出;
c)設(shè)備工作時(shí)將以補(bǔ)償后的工藝時(shí)間為實(shí)際工藝時(shí)間。
d)進(jìn)一步地,根據(jù)收集的溫度與工藝時(shí)間數(shù)據(jù)計(jì)算出a和b產(chǎn)生的方法(過(guò) 程)為:
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H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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