[發明專利]γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法

有效

• 申請號: 201110329386.7
• 申請日: 2011-10-26
• 公開（公告）號: CN102507530A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 趙弘韜;徐平;趙孝文;張麗芳;韓喜江
• 申請（專利權）人: 黑龍江省科學院技術物理研究所
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;B81C1/00
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 韓末洙

1.γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法是按下述步驟進行的：

步驟一、將玻璃基片置于55～65℃的堿液中浸泡0.5～1h，然后用蒸餾水清洗，再置于硝酸溶液中浸泡0.5h，然后用蒸餾水清洗，無水乙醇超聲洗滌0.5～1h，放在無水乙醇中備用；

步驟二、向硝酸銀溶液內加入自由基清除劑，自由基清除劑的體積為硝酸銀溶液體積的10％，通入氮氣30min后，得到輻射溶液；

步驟三、將步驟一清洗的玻璃基片放入輻射溶液中，密封，在輻照劑量為10kGy條件下進行γ射線輻照4～8h，即得到納米銀表面增強拉曼光譜基底，其中，步驟二所述的硝酸銀溶液由硝酸銀、絡合劑和蒸餾水組成，其中硝酸銀的濃度為0.01～0.5mol/L，絡合劑的濃度為0.01～0.05mol/L。

2.根據權利要求1所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟一所述的堿液是濃度為0.2～0.5mol/L的NaOH水溶液。

3.根據權利要求2所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟一所述的硝酸溶液的濃度為0.05～1.00mol/L。

4.根據權利要求3所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟一的超聲清洗所需超聲頻率為40KHz，超聲功率為250W。

5.根據權利要求4所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟一中將玻璃基片置于60℃的堿液中浸泡。

6.根據權利要求5所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟二中自由基清除劑為甲醇或異丙醇。

7.根據權利要求6所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟二中所述絡合劑為氨水或乙二胺。

8.根據權利要求7所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟二所述硝酸銀的濃度為0.05～0.2mol/L。

9.根據權利要求1至8中任一項權利要求所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟二所述絡合劑的濃度為0.03～0.05mol/L。

10.根據權利要求1所述的γ輻射制備納米銀表面增強拉曼光譜基底的方法，其特征在于步驟三所述輻照時間為5～6h。