[發明專利]多層光記錄介質無效
| 申請號: | 201110328451.4 | 申請日: | 2011-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN102456367A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發明(設計)人: | 菊川隆;井上素宏;小須田敦子;丑田智樹;平田秀樹 | 申請(專利權)人: | TDK股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24;G11B7/09 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;郭曉東 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多層 記錄 介質 | ||
技術領域
本發明涉及層積多個記錄再現層的多層光記錄介質,其中,該記錄再現層能夠通過照射光來再現信息。
背景技術
在光記錄介質的領域中,借助激光光源的短波長化和光學系統的高NA化,來提高記錄密度。例如在Blu-ray?Disc(BD:藍光盤)規格的光記錄介質中,能夠使激光的波長為405nm,開口數為0.85,進行每1層25GB容量的記錄再現。但是,利用這些光源和光學系統的努力達到極限,為了使記錄容量進一步增大,謀求沿光軸方向多重記錄信息的體積記錄。例如,在Blu-ray?Disc(BD)規格的光記錄介質中,提出了具有8層記錄再現層(參照非專利文獻1)或具有6層記錄再現層(參照非專利文獻2)的多層光記錄介質。
在多層光記錄介質中,在對記錄再現層的信息進行再現時,其他記錄再現層的信號漏入或因其他記錄再現層的影響產生的噪聲(noise)漏入即所謂的串擾成為問題。該串擾會導致伺服信號和記錄信號的惡化。
該串擾包括層間串擾和共焦串擾(confocal?crosstalk)這兩類。層間串擾是指,由與再現中的記錄再現層相鄰的記錄再現層反射后的光漏入到再現光中而產生的現象。因此,在具有兩層以上的記錄再現層的多層光記錄介質中必定成為問題。若增大層間距離,則該層間串擾會變小。
共焦串擾是在具有3層以上的記錄再現層的多層光記錄介質中特有的現象,共焦串擾是指,在由再現中的記錄再現層僅反射了一次的本來的再現光與由其他記錄再現層反射了多次的雜散光(stray?light)之間,彼此的光程一致而產生的現象。
關于共焦串擾的產生原理,使用圖11~圖14進行說明。在如圖11所示那樣的多層光記錄介質40中,為了進行再現或記錄而會聚在L0記錄再現層40d上的光束70因記錄再現層的半透過性而分支成多個光束。在圖12中示出如下現象:從用于L0記錄再現層40d的記錄再現的光束分支出的光束71由L1記錄再現層40c反射,并在L2記錄再現層40b上聚焦,該反射光再次由L1記錄再現層40c反射而被檢測出。
在圖13中示出如下現象:從用于L0記錄再現層40d的記錄再現的光束分支出的光束72由L2記錄再現層40b反射,并在光入射面40z上聚焦,該反射光再次由L2記錄再現層40b反射而被檢測出。在圖14中示出如下現象:從用于L0記錄再現層40d的記錄再現的光束分支出的光束73沒有在其他記錄再現層上聚焦,但依次由L1記錄再現層40c、L3記錄再現層40a、L2記錄再現層40b反射而被檢測出。
與光束70進行比較,作為雜散光的光束71~73的光量小,但由于以相等的光程和相等的光束直徑入射到光檢測器,所以由干涉產生的影響大,由光檢測器接受到的光量因微小的層間厚度的變化而顯著變動,難以檢測穩定的信號。另一方面,關于雜散光,反射的次數越多,因成為各記錄再現層的反射率之積,而光量越減少,因此,在實際應用上考慮三次的多面反射的雜散光即可。
在這些圖11~圖14所示的現象中,例如,若設定T1=T2,則光束70和光束71的光程與光束直徑相一致,同時入射到光檢測器(光電檢測器)而被檢測。同樣,若設定T1+T2=T3+TC,則光束70和光束72的光程和光束直徑相一致,另外,若設定T3=T1,則光束70和光束73的光程和光束直徑相一致。因此,為了避免共焦串擾,通常采用使所有的層間距離不同的方法。
非專利文獻1:I.Ichimura?et.al.,Appl.Opt.,45,1794-1803(2006)
非專利文獻2:K.Mishima?et.al.,Proc.of?SPIE,6282,62820I(2006)
從上述說明可知,若要為了避免層間串擾而擴大層間距離,則難以在有限的厚度中增加記錄再現層的疊層數。另外,若要為了避免共焦串擾而一邊使所有層間距離不同一邊增加記錄再現層的疊層數,則需要準備各種膜厚的中間層,所以結果產生層間距離變大的問題。其結果存在如下問題,即,距離光入射面最遠的記錄再現層遠離開光入射面,對于傾斜等下的彗形象差產生不利作用。
進而,有時在各記錄再現層上必須形成凹槽(grrove)/平臺(land)等的循跡控制用的凹凸。此時,由于需要利用壓模在各中間層上形成凹凸,所以容易在中間層的膜厚上產生誤差。因此,若要預先考慮該成膜誤差的影響來使各中間層的膜厚不同,則需要將膜厚差設定得大,所以存在使多層光記錄介質的厚度越來越大的問題。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于TDK股份有限公司,未經TDK股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110328451.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





