[發明專利]有多個半透過部分的半色調掩模及其制造方法

無效

• 申請號: 201110322312.0
• 申請日: 2007-05-11
• 公開（公告）號: CN102360159A
• 公開（公告）日: 2012-02-22
• 發明（設計）人: 姜甲錫;樸宰佑;樸相昱;沈惟敬;李勤植
• 申請（專利權）人: LG伊諾特有限公司
• 主分類號: G03F1/32
• 分類號: G03F1/32
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司 11285
• 代理人: 楊勇;鄭建暉

1.一種具有多個半透射部分的半色調掩模，包括：

透明基板；

光透射部分，其形成于所述透明基板上以透射預定波段的輻射光；

遮光部分，其形成于所述透明基板上以遮蔽所述預定波段的輻射 光；以及

至少兩個或更多個半透射部分，其通過將半透射材料沉積在所述透 明基板上形成，用于以各不相同的光透射使所述預定波段的輻射光穿 過，

其中所述半透射材料包括作為主要元素的Cr、Si、Mo、Ta、Ti和 Al，以及是至少兩種或更多種主要元素混合而成的復合材料，或者是在 復合材料中加入了COx、Ox和Nx中的至少一種的其他材料。

2.根據權利要求1所述的半色調掩模，其中所述至少兩個或更多個 半透射部分的光透射根據所述半透射材料的成分或所述半透射部分的厚 度加以控制。

3.根據權利要求1所述的半色調掩模，其中所述遮光部分通過沉積 遮光材料薄膜來形成，或通過依次沉積半透射材料薄膜和遮光材料薄膜而 形成。

4.一種制造具有多個半透射部分的半色調掩模的方法，包括：

在透明基板上依次形成遮光層和第一光刻膠，并通過依次使用曝光工 藝、顯影工藝和蝕刻工藝在所述遮光層上形成用于透射光的光透射部分和 用于遮蔽光的遮光部分；

在去除所述第一光刻膠之后，沉積用于透射所輻射在所述遮光部分和 所述光透射部分上的預定波段的光的僅僅一部分的半透射材料；

在所述半透射材料上形成第二光刻膠，并曝光和顯影所述第二光刻膠 以暴露出所述半透射材料的一部分；

在蝕刻所暴露的所述半透射材料之后，通過去除所述第二光刻膠形成 基本半透射部分；以及

在其上未形成所述基本半透射部分的光透射部分上沉積半透射材 料，并形成至少一個光透射不同于所述基本半透射部分的附加半透射部 分。

5.一種制造有多個半透射部分的半色調掩模的方法，包括：

依次在透明基板上形成遮光層和第一光刻膠，并通過依次使用曝光工 藝、顯影工藝和蝕刻工藝在所述遮光層上形成用于透射光的透射部分和用 于遮蔽光的遮光部分；

在去除所述第一光刻膠，并在所述光透射部分和所述遮光部分上形成 第二光刻膠之后，曝光和顯影所述第二光刻膠，以將于其上形成半透射部 分的一部分光透射部分暴露于外；

將所述半透射材料沉積到所述暴露于外的光透射部分的上部和所述 第二光刻膠的上部；

通過使用浮離法去除所述第二光刻膠和沉積在所述第二光刻膠上部 的所述半透射材料，并保留只是位于所述的暴露于外的光透射部分的上部 的半透射材料，以此來形成基本半透射部分；以及

將所述半透射材料沉積在其上未形成所述基本半透射部分的所述光 透射部分上，并形成至少一個光透射不同于所述基本半透射部分的附加半 透射部分。

6.根據權利要求4或5所述的方法，其中形成所述半透射部分包括：

將第三光刻膠形成在所述基本半透射部分、所述光透射部分和所述遮 光部分上，并曝光和顯影所述第三光刻膠，以將于其上形成半透射部分的 一部分光透射部分暴露于外；

將所述半透射材料沉積到所述暴露于外的光透射部分的上部以及所 述第三光刻膠的上部；以及

通過使用浮離法去除所述第三光刻膠和沉積在所述第三光刻膠上部 的所述半透射材料，并保留只是位于所述的暴露于外的光透射部分的上部 的所述半透射材料。

7.根據權利要求4或5所述的方法，其中重復進行形成附加半透射 部分，以另外形成附加半透射部分。