[發明專利]用于渦輪機翼形件的彎曲薄膜冷卻孔及相關方法

無效

• 申請號: 201110321166.X
• 申請日: 2011-10-12
• 公開（公告）號: CN102444434A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: J·B·巴特勒;B·P·萊西
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: F01D5/18
• 分類號: F01D5/18
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴志軍;譚祐祥

1.一種渦輪機輪葉(10)，包括：

在其一端處的翼形件部分(12)；在其相反端處的根部分(14)；在所述翼形件部分和所述根部分之間的平臺部分(16)；在所述平臺部分內或所述平臺部分的徑向向內的至少一個內部空腔(18)，具有在所述至少一個內部空腔(18)和所述平臺部分(16)的外表面之間延伸的至少一個薄膜冷卻孔(30)，所述至少一個薄膜冷卻孔(30)沿著所述至少一個薄膜冷卻孔的長度尺寸彎曲。

2.根據權利要求1所述的渦輪機輪葉，其特征在于，所述至少一個薄膜冷卻孔(30)形成有不一致的曲率半徑。

3.根據權利要求1所述的渦輪機輪葉，其特征在于，所述至少一個薄膜冷卻孔(30)形成有大致一致的曲率半徑。

4.根據權利要求1所述的渦輪機輪葉，其特征在于，所述至少一個薄膜冷卻孔(30)以相對于所述外表面小于大約30°的角度與所述平臺部分(16)的所述外表面相交。

5.根據權利要求4所述的渦輪機輪葉，其特征在于，所述至少一個薄膜冷卻孔(30)以相對于所述空腔的內表面(32)大于大約30°的角度與所述內部空腔(18)相交。

6.根據權利要求1所述的渦輪機輪葉，其特征在于，在所述平臺(16)處的所述至少一個薄膜冷卻孔(20)以比所述冷卻孔(20)進入所述內部空腔(18)所處的角度更淺的角度離開。

7.根據權利要求1所述的渦輪機構件，其特征在于，所述至少一個薄膜冷卻孔(20)具有大約0.03″的直徑。

8.一種在渦輪機輪葉平臺(16)中形成薄膜冷卻孔(30)的方法，所述薄膜冷卻孔(30)連接所述平臺(16)的外表面與在所述平臺內或所述平臺的徑向向內的內部空腔(18)，所述方法包括：

a.定位在所述平臺(16)的外表面上的薄膜冷卻孔(30)出口點以及向所述內部空腔(18)中開口的薄膜冷卻孔入口點；以及

b.沿所述薄膜冷卻孔出口點和所述薄膜冷卻孔入口點之間的彎曲路徑鉆出所述薄膜冷卻孔(30)。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述弧形路徑基于一致的曲率半徑。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述弧形路徑基于不一致的曲率半徑。

11.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，步驟(b)通過電火花加工執行。

12.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，步驟(b)通過電解加工執行。

13.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述薄膜冷卻孔(30)具有大約0.03″的直徑。

14.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述薄膜冷卻孔(30)以相對于所述外表面小于大約30°的角度在所述出口點處與所述平臺部分(16)的所述外表面相交。

15.根據權利要求14所述的方法，其特征在于，所述薄膜冷卻孔(30)以相對于所述內表面大于大約30°的角度在所述入口點處與所述內部空腔(18)的內表面(32)相交。