[發(fā)明專利]射線敏感性樹脂組合物、固化膜及其形成方法、液晶顯示元件的陣列基板及其形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110320842.1
• 申請日: 2011-10-18
• 公開（公告）號: CN102455597A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 米田英司;西信弘;兒玉誠一郎;豬俁克巳
• 申請（專利權(quán)）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/008
• 分類號: G03F7/008;G02F1/1333;G02F1/1337;G03F7/00
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所 11216
• 代理人: 劉激揚

1.射線敏感性樹脂組合物，其含有：

[A]具有(A1)含羧基的結(jié)構(gòu)單元及(A2)含環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的共聚物；

[B]醌二疊氮化合物；以及

[C]由下述式(1)表示的化合物、下述式(2)表示的化合物、叔胺化合物、胺鹽、鏻鹽、脒鹽、酰胺化合物、酮亞胺化合物、封端型異氰酸酯化合物、含有咪唑環(huán)的化合物及包合化合物構(gòu)成的群組中選出的至少一種固化劑，

式(1)中，R¹～R⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團或氨基，其中，R¹～R⁶中的至少一個為吸電子性基團，并且R¹～R⁶中的至少一個為氨基，另外，上述氨基的全部或部分氫原子可以被碳原子數(shù)1～6的烷基取代，

式(2)中，R⁷～R¹⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團或氨基，其中，R⁷～R¹⁶中的至少一個為氨基，另外，上述氨基的全部或部分氫原子可以被碳原子數(shù)1～6的烷基取代，A為單鍵、羰基、羰氧基、羰基亞甲基、亞磺酰基、磺酰基、亞甲基或碳原子數(shù)2～6的亞烷基，其中，上述亞甲基及亞烷基的全部或部分氫原子可以被氰基、鹵素原子或氟烷基取代。

2.如權(quán)利要求1所述的射線敏感性樹脂組合物，其中，[C]固化劑是由上述式(1)及式(2)表示的化合物構(gòu)成的群組中選出的至少一種物質(zhì)。

3.如權(quán)利要求1或2所述的射線敏感性樹脂組合物，其被用于形成作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的固化膜。

4.由權(quán)利要求3所述的射線敏感性樹脂組合物形成的作為層間絕緣膜、保護膜或隔離物的固化膜。

5.液晶顯示元件的陣列基板，其具備權(quán)利要求4所述的固化膜以及取向膜，該取向膜層疊于該固化膜上，并且由液晶取向劑形成。

6.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示元件的陣列基板，其中，上述液晶取向劑是含有帶光取向性基團的射線敏感性聚合物的液晶取向劑、或含有不帶光取向性基團的聚酰亞胺的液晶取向劑。

7.固化膜的形成方法，其具有：

(1)在基板上涂布權(quán)利要求3所述的射線敏感性樹脂組合物，形成涂膜的工序；

(2)對上述涂膜的至少一部分照射射線的工序；

(3)使經(jīng)過上述射線照射的涂膜顯影的工序；及

(4)對經(jīng)過上述顯影的涂膜進行焙燒的工序。

8.如權(quán)利要求7所述的固化膜的形成方法，其中，上述工序(4)的焙燒溫度為200℃以下。

9.液晶顯示元件的陣列基板的形成方法，其具有權(quán)利要求7所述的工序(1)～(4)、及(5)在經(jīng)過焙燒的涂膜上涂布液晶取向劑，并通過在200℃以下的加熱而形成取向膜的工序。