[發(fā)明專利]一種致密鎢涂層的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110319430.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102400084A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭志猛;盛艷偉;郝俊杰;林濤;邵慧萍;羅驥;王玉明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C4/12 | 分類號(hào): | C23C4/12;C23C4/08 |
| 代理公司: | 北京東方匯眾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11296 | 代理人: | 劉淑芬 |
| 地址: | 100083*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 致密 涂層 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
?本發(fā)明屬于表面工程技術(shù)領(lǐng)域,特別是提供了一種利用射頻等離子體制備致密鎢涂層的方法。
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背景技術(shù)
面向等離子體材料(Plasma?Facing?Materials,PFMs,又稱第一壁材料)是指在聚變裝置內(nèi)直接面向高溫等離子體,需要承受高能粒子和高熱量沖擊用來保護(hù)聚變裝置的材料。在熱核聚變裝置中,面向等離子體材料既要承受高熱負(fù)荷要求,又要滿足等離子體破裂時(shí)的大功率能量沉積和高能離子輻照要求。鎢具有高熔點(diǎn)(3410℃)、導(dǎo)熱性能好、較低的濺射率、較高的濺射能量閥值、不與氫同位素反應(yīng)、與等離子體好的兼容性和低的腐蝕率等優(yōu)點(diǎn),是最有前景的一種面向等離子體材料。
為了解決面向等離子體材料的制備及其與熱沉材料連接問題,涂層技術(shù)廣泛應(yīng)用在實(shí)驗(yàn)聚變堆裝置中。目前,在鋼基體或銅基體上制備鎢涂層的方法很多,如物理氣相沉積(Physical?Vapor?Deposition,?PVD)、化學(xué)氣相沉積(Chemical?Vapor?Deposition,?CVD)、等離子體噴涂(Plasma?Spraying,PS)等。物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積涂層具有高的密度和純度,而且呈垂直于表面的柱狀晶粒結(jié)構(gòu),這一點(diǎn)對(duì)于高熱流部件是有益的。但它的高密度不利于應(yīng)力的釋放,裂紋一旦形成將很容易擴(kuò)展。同時(shí),氣相沉積技術(shù)工藝復(fù)雜,沉積效率低,厚涂層制備困難,成本較高。等離子體噴涂具有工藝簡(jiǎn)單,成本低廉,可制備形狀復(fù)雜的涂層工件。其缺點(diǎn)是涂層中存在氣孔、裂紋等缺陷,涂層致密度低。同時(shí),涂層與基體為機(jī)械結(jié)合,結(jié)合強(qiáng)度較差,在噴涂過程中粉末容易氧化,不能滿足鎢涂層在高輻照、高熱沖擊條件下的使用要求。
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有等離子體噴涂制備鎢涂層技術(shù)的不足,提供一種可有效解決涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度的致密鎢涂層的制備方法。以射頻等離子體為高溫?zé)嵩?,鎢粉穿過等離子體高溫區(qū)時(shí)迅速吸熱、熔融,完全熔融的鎢粉在基體上沉積、熔覆形成致密鎢涂層。涂層的制備包括熔融鎢粉的噴涂和沉積,又包括完全熔融鎢粉在基體上的熔覆。由于完全熔融的鎢粉熱量很高,熔覆在基體上的涂層與基體之間形成0.05~0.2mm的過渡層,有效地釋放了涂層與基體的熱應(yīng)力,涂層與基體實(shí)現(xiàn)良好的冶金結(jié)合。同時(shí),完全熔融的鎢粉沉積、熔覆在基體上,形成致密的鎢涂層,具有良好的抗熱輻照、抗熱沖擊性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于采用射頻等離子體為高溫?zé)嵩?,鎢粉以完全熔融的狀態(tài)沉積、熔覆在基體上形成致密的鎢涂層?;w材料包括:不銹鋼和無氧銅。本發(fā)明制備的鎢涂層氣孔率低,致密度高。涂層與基體為冶金結(jié)合,結(jié)合強(qiáng)度高;同時(shí),涂層制備過程中避免粉末和涂層的氧化,粉末的利用率高,生產(chǎn)成本低。本方法制備的鎢涂層具有良好的抗熱輻照和抗熱沖擊性能,適合應(yīng)用于核聚變裝置中的面向等離子體材料等領(lǐng)域。
本發(fā)明的目的通過以下方式實(shí)現(xiàn)一種致密鎢涂層的制備。其特性是:以微細(xì)鎢粉為原料,采用射頻等離子體為高溫?zé)嵩?,氬氣為工作氣和粉末載氣將鎢粉送入等離子體高溫區(qū),鎢粉穿過等離子體高溫區(qū)時(shí)迅速吸熱、熔融,完全熔融的鎢粉在真空室內(nèi)于基體上沉積、熔覆在基體上形成致密的鎢涂層。
一種致密鎢涂層的制備方法,包括以下步驟:
(1)選擇平均粒度為5μm~45μm的鎢粉為原料,在?90℃的真空干燥箱內(nèi)烘干備用。以不銹鋼、無氧銅或銅合金為噴涂基體,經(jīng)噴砂預(yù)處理后,再用丙酮或酒精進(jìn)行除油清洗,從而獲得清潔、粗糙的表面;???????
(2)對(duì)真空室進(jìn)行預(yù)抽真空處理,使真空室內(nèi)真空度達(dá)到1×10-3Pa,防止粉末及涂層的氧化。以氬氣為工作氣體建立穩(wěn)定運(yùn)行的氬等離子體炬,以氬氣為保護(hù)氣以防止等離子體工作時(shí)石英管內(nèi)表面溫度過高造成毀壞,并以氬氣作為粉末載氣將鎢粉經(jīng)喂料系統(tǒng)、加料槍軸向送入等離子弧中。其主要工藝參數(shù)為:其主要工藝參數(shù)為:設(shè)備運(yùn)行的等離子體炬工作功率30~75KW,氬氣工作氣流量20~45slpm,氬氣保護(hù)氣流量20~110slpm,射頻等離子體系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)腔室內(nèi)壓力200~300mm汞柱。?
(3)采用射頻等離子體為高溫?zé)嵩?,?duì)鎢粉進(jìn)行熔融和沉積處理。以氬氣作為粉末載氣將鎢粉送入等離子體高溫區(qū),由于等離子體射流溫度極高(高達(dá)10000℃),溫度范圍以中心軸附近向外鋪開,鎢粉的粉末顆粒在軸線上穿過等離子體高溫區(qū)瞬間迅速吸熱、熔融,完全熔融的鎢粉噴入真空室后沉積、熔覆并凝固在基體表面形成致密鎢涂層,涂層和基體實(shí)現(xiàn)冶金結(jié)合。其中,涂層基體采用強(qiáng)制水冷卻,使得基體溫度處于150~350℃;
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
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C23C4-14 ..用于長(zhǎng)形材料的鍍覆
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