[發明專利]透射電子顯微鏡-薄片、其制作方法及用于實施該方法的設備有效
| 申請號: | 201110318890.7 | 申請日: | 2011-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN102564818A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | L·萊克納;U·凱瑟;J·比斯庫佩克 | 申請(專利權)人: | 烏爾姆大學;卡爾蔡司NTS有限責任公司 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28;G01N1/44 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 吳艷 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透射 電子顯微鏡 薄片 制作方法 用于 實施 方法 設備 | ||
1.一種用于進行透射電子顯微鏡檢驗的樣品的制備方法,所述方法包括:
將基底安裝到支撐件上,所述基底具有中央平面以及垂直于所述中央平面測量的厚度,所述支撐件具有垂直于安裝方向的安裝平面;
利用粒子束在所述基底的第一側面上制作第一條形凹部,所述第一條形凹部具有第一縱向,在所述第一條形凹部的縱向和所述支撐件的安裝方向之間具有第一角度;以及
利用所述粒子束在所述基底的第二側面上制作第二條形凹部,所述第二條形凹部具有第二縱向,在所述第二條形凹部的第二縱向和所述支撐件的安裝方向之間具有第二角度,使得所述第一和第二條形凹部的第一和第二縱向相互之間形成銳角或直角,并且所述第一和第二凹部之間形成厚度比所述基底厚度更小的交疊區域。
2.根據權利要求1的方法,其中,相對于所述中央平面傾斜地入射到所述基底上的聚焦離子束被用于制作所述凹部。
3.根據權利要求1或2的方法,其中,所述第一凹部被制成從所述基底的第一邊緣連續地延伸到與所述第一邊緣相反的所述基底的第二邊緣,并且所述第二凹部被制成從所述基底的第三邊緣連續地延伸到與第三邊緣相反的所述基底的第四邊緣。
4.根據權利要求1至3之一的方法,其中,在制作所述第一凹部和制作所述第二凹部之間,所述支撐件繞垂直或橫向于所述中央平面的軸傾側。
5.根據權利要求1至4之一的方法,其中,在制作所述第一凹部和制作所述第二凹部之間,所述支撐件繞相對于所述中央平面傾斜或平行的軸旋轉,其中,所述旋轉軸可選地相對于所述傾側軸傾斜或垂直。
6.根據權利要求4或5的方法,其中,所述粒子束被用于以相同的空間定向制作兩個凹部。
7.一種板狀樣品,所述樣品具有較厚的邊緣區域以及至少一個較薄的中央區域、位于所述樣品的第一平坦側面上的至少一個第一條形凹部、和位于所述樣品的第二平坦側面上的第二條形凹部,其中,至少一個所述第一凹部和所述第二凹部在于所述平坦側面上的投影中相互之間形成銳角或直角,并且在它們之間形成厚度小于100nm的交疊區域。
8.根據權利要求7的樣品,其中,所述邊緣區域各處都比所述中央區域厚。
9.一種設備,用于實施根據權利要求1至6之一所述的方法,和/或用于制作根據權利要求7或8所述的樣品,所述設備包括:
可繞橫軸樞轉的薄片支撐件;
旋轉裝置,用于使所述薄片支撐件繞相對于所述橫軸傾斜的縱軸旋轉,其中,所述縱軸特別地是相對于豎直方向傾斜;以及
限制器,用于使所述薄片支撐件繞所述橫軸傾側。
10.根據權利要求9的設備,所述薄片支撐件具有質心,其中,所述薄片支撐件的質心設置成遠離所述橫軸,并且所述限制器被設置成由位于所述橫軸兩側的所述薄片支撐件的傾斜表面提供的并且與被支撐的探針相反的制動件。
11.根據權利要求9的設備,包括平移-旋轉-換能器,所述平移-旋轉-換能器具有聯接在一起的旋轉部件和平移部件,其中,所述換能器的旋轉部件承載所述薄片支撐件并且所述換能器的平移部件可移動地安裝在設備上,使得通過啟動所述旋轉裝置,所述平移部件的平移方向能夠被帶到相對于水平方向傾斜的位置。
12.根據權利要求9至11之一的設備,包括粒子束源和粒子束引導件,用于將粒子束引導到被所述薄片支撐件支撐的樣品的平坦側面上,其中,所述粒子束可選地為聚焦離子束。
13.根據權利要求9至12之一的設備,包括電子束源和電子束引導件,用于將電子束引導到被所述薄片支撐件支撐的樣品上。
14.根據權利要求9至13之一的設備,其中,所述橫軸的方向基本垂直于所述被支撐樣品的表面。
15.根據權利要求12或其從屬權利要求之一的設備,還包括用于將所述薄片支撐件定位在所述粒子束可到達的空間區域內的支撐件。
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