[發明專利]地下溶洞造影探測法

有效

• 申請號: 201110317895.8
• 申請日: 2011-10-19
• 公開（公告）號: CN102444111A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: 鄧業燦
• 申請（專利權）人: 鄧業燦
• 主分類號: E02D1/02
• 分類號: E02D1/02;G01V3/18;G01N27/02
• 代理公司: 廣州凱東知識產權代理有限公司 44259
• 代理人: 陳領

1.地下溶洞造影探測法，其特征在于，其步驟包括：首先在待測建筑工程場地的地下水上游施工設置投鹽造影孔，向鹽投造影孔內投可溶性金屬化合物，利用地下溶洞的充水性及圍巖石灰巖的裂隙與地下溶洞之間的連通性，使可溶性金屬化合物溶解后順地下水流向流動；測量地下溶洞及圍巖石灰巖的電阻率值，通過觀察地下溶洞與圍巖石灰巖的電阻率電性差異來探測石灰巖地區地下溶洞。

2.根據權利要求1所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，所述投鹽造影孔深度超過建筑物基礎設計深度5-10m或進入連續完整石灰巖5-10m。

3.根據權利要求2所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，所述投鹽造影孔布設方法包括的步驟如下：

(1)對待測建筑工程場進行前期勘探，確定需探測石灰巖場地地下溶洞發育程度、地下水富水性及地下水流向。

(2)在地下水流向上游布設投鹽造影孔。

4.根據權利要求3所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，所述投鹽造影孔距探測場地6～20m，鉆孔間距為3～10m。

5.根據權利要求4所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，在建筑工程場地兩側的投鹽造影孔各超出探測區2-3m布設。

6.根據權利要求4或5所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，每隔

50-60m進行探測場地分區及每隔50-60m增加一排投鹽造影孔。

7.根據權利要求6所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，在所述投鹽造影孔中的地面至石灰巖面之間設置套管。

8.根據權利要求7所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，所述套管外壁與孔壁之間插入細導管進行壓入水泥漿隔水。

9.根據權利要求8所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，向投鹽造影孔內投可溶性金屬化合物的方法如下：在擬探測分區上游最近一排投鹽造影孔，采用統一時間，統一分批、統一投鹽量的方式向投鹽造影孔內投50～500kg可溶性金屬化合物。

10.根據權利要求1或9所述的地下溶洞造影探測法，其特征在于，所述可溶性金屬化合物為氯化鈉。