[發明專利]光學元件及其制造方法有效
| 申請號： | 201110317164.3 | 申請日： | 2008-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN102360092A | 公開（公告）日： | 2012-02-22 |
| 發明（設計）人： | 酒井修;古山義幸 | 申請（專利權）人： | 阿爾卑斯電氣株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 楊謙;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 元件 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學元件的制造方法，其特征在于，包括：
(f)在基板表面形成突出為曲面狀的凸部，此時形成為從上述凸部的 底部至上述凸部的頂點的高度為50μm以上且曲率半徑小于10mm的工序；
(g)在上述曲面狀的凸部表面上蒸鍍抗蝕劑的工序；
(h)沿著上述凸部表面的曲面形狀驅動進行電子束曝光時的電子槍進 行曝光，在上述抗蝕劑上形成由微小凹凸形狀構成的反射防止結構的圖案 的工序；
(i)對沒有被上述抗蝕劑覆蓋的上述凸部表面進行蝕刻，在上述凸部 表面上形成上述反射防止結構的工序；以及
(j)除去上述抗蝕劑的工序；
在上述(h)工序時，將對形成在上述凸部表面的底部側的抗蝕劑進行 曝光的曝光寬度設定為比對形成在上述凸部表面的頂點側的抗蝕劑進行曝 光的曝光寬度窄。
2.根據權利要求1所述的光學元件的制造方法，其特征在于，
將經上述(f)工序至上述(j)工序形成的基板作為母模，利用上述基 板形成鑄模，利用上述鑄模在光學元件材料的表面上轉印曲面狀的凸部以 及上述反射防止結構。
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