[發(fā)明專利]微波等離子體源和等離子體處理裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110316506.X
• 申請日: 2011-10-18
• 公開（公告）號: CN102458032A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 池田太郎;長田勇輝
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種微波等離子體源，是向?qū)嵤┑入x子體處理的處理容器內(nèi)導(dǎo)入微波、并使向所述處理容器內(nèi)供給的氣體等離子體化的等離子體源，其特征在于，具備：

生成微波的微波生成機(jī)構(gòu)；和

將生成的微波供給到所述處理容器內(nèi)的微波供給部，

所述微波供給部具有：將微波導(dǎo)入所述處理容器內(nèi)的多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)；對分別向所述多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)輸入的微波的相位進(jìn)行調(diào)整的多個(gè)相位器，

通過所述多個(gè)相位器對輸入所述多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)的微波的相位進(jìn)行調(diào)整，使得關(guān)于多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)中鄰接的微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，固定一個(gè)的微波的輸入相位使另一個(gè)的微波的輸入相位按照周期性波形變化，或者使鄰接的微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)的雙方的微波的輸入相位按照相互不重疊的周期性波形變化。

2.如權(quán)利要求1所述的微波等離子體源，其特征在于：

所述周期性波形可以是正弦波、三角波、梯形波和正弦波狀波形中的任一個(gè)。

3.如權(quán)利要求1或者2所述的微波等離子體源，其特征在于：

還具有構(gòu)成所述處理容器的上壁、并使從所述多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)輻射的微波透過的頂板，所述頂板具有在與所述多個(gè)微波導(dǎo)入機(jī)構(gòu)對應(yīng)的位置設(shè)置的多個(gè)電介質(zhì)部件和支承電介質(zhì)部件的金屬制的框體，所述框體具有蜂巢狀結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求3所述的微波等離子體源，其特征在于：

所述框體具有氣體流路和多個(gè)氣體噴出孔，能將等離子體處理所需要的氣體從所述氣體噴出孔向所述處理容器噴出。

5.一種等離子體處理裝置，其特征在于，具備：

收容被處理基板的處理容器；

在所述處理容器內(nèi)載置被處理基板的載置臺；

向所述處理容器內(nèi)供給氣體的氣體供給機(jī)構(gòu)；和

權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的微波等離子體源，

由從所述微波等離子體源向所述處理容器內(nèi)導(dǎo)入的微波產(chǎn)生等離子體，通過該等離子體對被處理基板實(shí)施處理。