[發明專利]OLED用含鉬和/或鋁金屬膜的蝕刻液及其制備方法

有效

• 申請號: 201110316299.8
• 申請日: 2011-10-18
• 公開（公告）號: CN102392248A
• 公開（公告）日: 2012-03-28
• 發明（設計）人: 馮衛文
• 申請（專利權）人: 綿陽艾薩斯電子材料有限公司
• 主分類號: C23F1/20
• 分類號: C23F1/20;C23F1/26;H01L51/52
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 關暢

技術領域

本發明涉及一種有機電致發光裝置用于信號配線的層疊配線的形成方法，特別是涉及一種OLED用含鉬和/或鋁金屬膜的蝕刻液及其制備方法。

背景技術

在平板顯示領域中，OLED因其超輕薄、全固化、自發光、視角廣、響應速度快、溫度適應性廣、可實現柔軟顯示等諸多突出的性能，因此其應用前景比普通的液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display，LCD)更豐富。目前OLED已經成功的應用于商業、通訊、計算機、消費類電子產品、工業、交通等多領域，被看做極具競爭力的未來顯示技術之一。

OLED的結構通常由陰極、電子傳輸層、有機發光層、空穴傳輸層、陽極構成。陽極常用透明導電金屬氧化物構成，比如說氧化銦錫(Indium-Tin?Oxide，ITO)透明導電膜。由于ITO的方塊電阻較大，當主電極引線過長或是過細時，其上就會產生較大的電壓降，使顯示區的發光強度減弱。為了盡可能地減小電阻，會在作為主電極引線的全部或部分ITO上覆蓋輔助電極引線，通常考慮到防腐蝕防氧化采用鉬/鋁金屬引線。

隨著近年，在OLED組件制造工序中，伴隨著高精細化、高集成化而引起的圖形的超微細化傾向，對金屬膜做引線的蝕刻的控制性和精度有了更高要求。另外，對金屬層疊膜的蝕刻中，為了防止上層配線的斷線，獲得可靠性高的配線，需要將金屬層疊膜的截面形狀的錐角控制在20°-70°。

現有的鉬金屬膜和鋁金屬膜蝕刻液多采用硝酸、磷酸、醋酸和水的混合物，如日本專利特開平7-176500號公報，該混合物蝕刻液在蝕刻層疊膜時，很難將鉬金屬膜的錐角控制在20°-70°。

此外，有采用磷酸、硝酸、和醋酸或烷基磺酸的蝕刻液混合物，如日本專利特開2005-85811號公報對鉬類和鋁類金屬膜層疊膜蝕刻，但其容易產生殘渣，影響蝕刻精度。

發明內容

本發明的目的是提供一種OLED用含鉬和/或鋁金屬膜的蝕刻液及其制備方法。

本發明提供的OLED用含鉬和/或鋁金屬膜的蝕刻液，包括硝酸水溶液、磷酸水溶液、甜菜堿兩性表面活性劑和水。

所述蝕刻液也可只由上述組分組成。

其中，所述硝酸水溶液的質量百分濃度為63-67％，優選65％；所述硝酸水溶液占所述蝕刻液總重的1-10％，優選2-8％，具體可為1-2％、1-5％、1-8％、2-5％、5-8％、5-10％或8-10％。硝酸的作用是對鉬類金屬膜的蝕刻，當其質量百分比低于1％時，對鉬類金屬膜蝕刻速度太慢、高于10％時，蝕刻速度太快，難以控制精度，且對光致抗蝕劑層損害加大。

所述磷酸水溶液的質量百分濃度為50-54％，優選52％。所述磷酸水溶液占所述蝕刻液總重的40-80％，具體可為40-50％、40-60％、40-70％、50-80％、50-70％、50-60％、60-80％、60-70％或70-80％，優選50-70％。磷酸的作用是對鋁類金屬膜的蝕刻，當其質量百分比低于40％時，對鋁類金屬膜蝕刻速度太慢、高于80％時，蝕刻速度提高，但金屬層疊膜的錐角容易變成70°以上。

所述甜菜堿兩性表面活性劑選自月桂酰胺丙基羥磺基甜菜堿、月桂酰胺丙基甜菜堿和椰油酰胺丙基羥磺基甜菜堿中的至少一種。所述甜菜堿兩性表面活性劑占所述蝕刻液總重的0.1-5％，具體可為0.1-0.5％或0.5-1％，優選0.5-2％，更優選0.5-1％。上述甜菜堿兩性表面活性劑均能從公開商業途徑而得。甜菜堿類兩性表面活性劑的作用是改善蝕刻液組合物和金屬膜表面的表面張力，增加金屬膜表面的潤濕性，有效控制金屬膜的錐角在20°-70°，并提高蝕刻速度的穩定性，增加蝕刻的控制性，當其質量百分比低于0.1％時，作用效果不明顯、高于10％時，蝕刻過程中會出現殘渣，影響蝕刻質量和精度。

余量為所述水。所述水為去離子水，所述水在25℃的電阻率至少為18兆歐。

本發明提供的制備上述蝕刻液的方法，包括如下步驟：將前述蝕刻液的組分混勻，得到所述蝕刻液。

上述本發明提供的蝕刻液在蝕刻含鉬和/或鋁金屬膜中的應用，也屬于本發明的保護范圍。

其中，構成所述含鉬金屬膜的材料由鉬和下述元素中的至少一種組成：鉻、銅、鎢和鈮；所述含鉬金屬膜中，鉬的質量百分含量不小于80％；

構成所述含鋁金屬膜的材料由鋁和下述元素中的至少一種組成：鋅、銅、釹和硅；所述含鋁金屬膜中，鋁的質量百分含量不小于80％。