[發(fā)明專利]記錄介質(zhì)排出裝置及包括該裝置的圖像形成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110315199.3 | 申請日： | 2011-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN102556741A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 大西雄三 | 申請（專利權(quán)）人： | 京瓷美達株式會社 |
| 主分類號： | B65H29/52 | 分類號： | B65H29/52 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 齊葵;王誠華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 記錄 介質(zhì) 排出 裝置 包括 圖像 形成 | ||
1.一種記錄介質(zhì)排出裝置，包括：
排出口，排出記錄介質(zhì)；和
排出托盤，裝載從該排出口排出的記錄介質(zhì)，
其特征在于，進一步包括按壓部件，該按壓部件與記錄介質(zhì)排出方向平行地擺動自如地支撐在關(guān)于記錄介質(zhì)排出方向在所述排出口的下游側(cè)附近，并具有：側(cè)面部，與所述排出口相對置；和底面部，從該側(cè)面部的下端向記錄介質(zhì)排出方向下游側(cè)突出，并能夠從上方按壓從所述排出口排出的記錄介質(zhì)的后端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述按壓部件在靜止的狀態(tài)下因自重所述側(cè)面部與所述底面部相交的角部關(guān)于記錄介質(zhì)排出方向位于比所述按壓部件的擺動軸更靠近上游側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述按壓部件在靜止的狀態(tài)下因自重所述底面部朝向記錄介質(zhì)排出方向下游側(cè)向下傾斜。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述按壓部件具有從動旋轉(zhuǎn)體，該從動旋轉(zhuǎn)體配置為從所述角部的表面突出，并能夠沿記錄介質(zhì)運送方向旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述從動旋轉(zhuǎn)體在與從所述排出口排出的記錄介質(zhì)的寬度方向尺寸相應(yīng)的位置上配置多個。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述從動旋轉(zhuǎn)體在所述按壓部件的寬度方向大致全部區(qū)域配置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，
進一步包括滿載檢測部件，配置在所述按壓部件的記錄介質(zhì)排出方向下游側(cè)附近，在從最接近所述排出托盤的基準(zhǔn)位置到檢測裝載在所述排出托盤上的記錄介質(zhì)的滿載的檢測位置之間與所述按壓部件沿同一方向擺動，
所述按壓部件通過從記錄介質(zhì)排出方向上游側(cè)與所述滿載檢測部件抵接，從而使所述滿載檢測部件與所述按壓部件一起擺動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述滿載檢測部件沿著所述排出口設(shè)有多個，所述按壓部件僅與多個所述滿載檢測部件之中在記錄介質(zhì)的寬度方向上位于最外側(cè)的所述滿載檢測部件抵接。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的記錄介質(zhì)排出裝置，其特征在于，所述滿載檢測部件以與所述按壓部件的擺動軸不同的擺動軸為支點擺動。
10.一種圖像形成裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1～9中的任一項所述的記錄介質(zhì)排出裝置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京瓷美達株式會社，未經(jīng)京瓷美達株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110315199.3/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
