[發(fā)明專利]光刻裝置和器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110314135.1
• 申請日: 2005-10-18
• 公開（公告）號: CN102323727A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·-G·C·范德托爾恩;C·A·胡根達(dá)姆
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光刻投影裝置，包括：

配置成保持基底的基底臺；

配置成把帶圖案的輻射光束投影到基底上的投影系統(tǒng)；

液體限制結(jié)構(gòu)，所述液體限制結(jié)構(gòu)被配置成把液體限制在空間中，所述空間為投影系統(tǒng)與基底、基底臺或上述兩者之間的空間，基底、基底臺或上述兩者配置成形成所述空間的邊界的一部分；以及

致動的封閉板，該封閉板配置成當(dāng)基本上未擾動液體、液體限制結(jié)構(gòu)或上述兩者而移動時，替代基底、基底臺或上述兩者構(gòu)成所述空間的邊界的一部分，其中，所述封閉板被定位或成形以使得致動的封閉板的頂面大體上與基底臺處于相同的高度，使得當(dāng)基底臺遠(yuǎn)離投影系統(tǒng)下方的位置移動時，可以進(jìn)行連續(xù)的、沒有干擾的移動，同時保持使液體包含在液體限制結(jié)構(gòu)中的密封，在用干涉計(jì)測量光束的過程中不擋住干涉計(jì)裝置的任何干涉計(jì)光束；

其中，所述致動的封閉板和所述基底臺設(shè)置為當(dāng)所述致動的封閉板水平地移動到投影系統(tǒng)下方的位置從而替換所述基底臺，所述基底臺被構(gòu)造并且設(shè)置為水平地遠(yuǎn)離投影系統(tǒng)下方的位置。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，包括致動裝置，所述致動裝置配置成在水平面移動所述封閉板。

3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述致動裝置配置成在與基底、基底臺或上述兩者相同的平面中移動所述封閉板，以便所述封閉板跟隨基底、基底臺或上述兩者越過所述液體限制結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述基底臺包括有源補(bǔ)償器，所述有源補(bǔ)償器被配置成補(bǔ)償由于用封閉板替換基底、基底臺或上述兩者作為空間邊界的一部分而沿與基底臺移動方向垂直的方向作用在基底臺上的負(fù)荷變化。

5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中基底臺和封閉板可釋放地耦合。